【摘要】：陣列優(yōu)化、誤差校正、反演成像算法是綜合孔徑輻射計成像領域內(nèi)的三個關鍵技術。本文主要研究陣列優(yōu)化和誤差校正,對反演算法作簡要介紹并應用于前兩者所研究的方案,以進行性能驗證和比較。首先,本文對綜合孔徑毫米波輻射計成像基本工作原理進行了介紹,討論了陣列優(yōu)化主要參數(shù),分析了三類典型誤差模型,還簡要介紹了反演成像算法,為后續(xù)研究提供理論基礎。其次,重點研究了綜合孔徑輻射計非均勻柵格采樣的圓環(huán)陣列優(yōu)化,提出一種基于空洞連片數(shù)的改進目標函數(shù),再將雜草入侵-粒子群算法成功應用于綜合孔徑輻射計圓陣優(yōu)化領域,組成了本文優(yōu)化方案。該方案比傳統(tǒng)方案耗時大幅減少約兩個數(shù)量級,分布均勻度更準確,反演成像質(zhì)量更高。最后,研究綜合孔徑輻射計誤差校正技術,針對現(xiàn)有的兩種綜合孔徑輻射計幅相誤差校正算法嚴重依賴輔助源精確已知方位的缺陷,本文結合有源校正與自校正優(yōu)勢,研究了三種陣元幅相誤差校正法,包括Toeplitz預處理結合輔助源法、協(xié)方差矩陣非對角元素之差法和雜草入侵-粒子群法。它們先校正幅度誤差,消除低信噪比時幅度誤差對噪聲的作用,再校正相位誤差,這些方法均不對輔助源方位作精確要求也避免了非線性高維聯(lián)合求解。此外還研究了 Toeplitz預處理結合特征值重構的陣元位置誤差校正、陣元位置誤差條件下的雜草入侵-粒子群校正算法。這些改進的誤差校正方法都可應用于綜合孔徑輻射計誤差校正中,并取得了較好的效果。
【學位授予單位】：南京理工大學
【學位級別】：碩士
【學位授予年份】：2018
【分類號】：TN015;TP391.41
【圖文】：

T型陣分布圖

3U型陣分布圖

Y型陣分布圖

【參考文獻】

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本文編號：2802560