基于硅通孔的三維集成電路分析及無源器件設(shè)計(jì)
【學(xué)位授予單位】:杭州電子科技大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類號(hào)】:TN40;TN713
【圖文】:
子分析、計(jì)算機(jī)系統(tǒng)、軍事系統(tǒng)、衛(wèi)星系統(tǒng)、潛艇系統(tǒng)等等。從消費(fèi)領(lǐng)域到超高端產(chǎn)品和軍逡逑事用途,幾乎所有的工業(yè)產(chǎn)品都包含了半導(dǎo)體器件。逡逑如圖1.1(a)所示,近幾十年來1C技術(shù)主要由“器件縮放”驅(qū)動(dòng),即減小門尺寸,降低工作逡逑2003年邐2005年邐2007邋年邐2009年邐20丨1邋年逡逑90nm邐65邋nm邐45nra邐32nm邐22nm逡逑三柵邋W逡逑(a)逡逑邐邐邐邐邐邐邋.邋.邋.邋,邋.邋,邐邐邐邋40,邐逡逑B邋mas邐?邐f邋i逡逑i0邐0邋_邐,逡逑?邋_邐30邋-邋邐逡逑0邋CKP逡逑1邐?邋-tT,邋up邐,逡逑:邐S胿|通邐v|▲,口邐v|20-邐命,z,逡逑S'邐B邐留逡逑NB'S::...-一….NB
以降低門開關(guān)延時(shí)和提高器件性能。在過去的幾十年中,晶體管的特征尺寸從90mn縮逡逑小到了邋14nm。根據(jù)Intel公司預(yù)測(cè),晶體管的特征尺寸最終將縮小至7nm[3],由于硅材料的物逡逑理特性,7nm也將是硅材料芯片的物理極限。如圖1.1(b)所示,當(dāng)晶體管尺寸縮小到45nm以逡逑下時(shí),晶體管的延遲將不再下降反而略有上升。而隨著特征尺寸的縮小,互連線尺寸必然隨逡逑之減小。隨之帶來的是減小的互連線橫截面積導(dǎo)致互連線電阻增加,縮小的線間距將會(huì)導(dǎo)致逡逑耦合電容的增加,使得互連線整體延遲增加。如圖1.1(c)所示,隨著制程節(jié)點(diǎn)的不斷縮小,門逡逑電路的延遲在逐漸減少,但互連線的延遲在逐漸增加,并且互連線延遲在總延遲中占據(jù)的比逡逑例越來越高。另一方面,在高性能處理器中,由于互連線負(fù)載效應(yīng)的增加,影響了高性能芯逡逑片的功耗,其中大部分功耗可以歸因于互連線網(wǎng)絡(luò)。因此我們可以說,互連線己經(jīng)成為三維逡逑集成電路延遲和功耗的主要來源,集成電路的設(shè)計(jì)將由晶體管占主導(dǎo)地位變成互連線占主導(dǎo)逡逑地位[61。傳統(tǒng)的計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)(CAD)方法和工具也受到互連擴(kuò)展的影響
義逡逑icon邋Via,TSV)技術(shù)作為三維集成電路的核心,甚至距離WilliamShockley發(fā)明娃通孔(不用了邋1958年由William邋Shockley提出的TSV結(jié)制造方法”,也正是他同John邋Bardenn、Walter邋發(fā)明一一晶體管。典型的硅通孔結(jié)構(gòu)由基體(、絕緣體(一般為二氧化硅,Si02)組成,在電導(dǎo)體貫通整個(gè)基體以實(shí)現(xiàn)不同芯片層中器件程中形成的階段,可以將桂通孔工藝分為via-fi娃通孔在不同的金屬化之間形成)、via-last邋(,TSV的制造過程可分為以下幾個(gè)步驟:逡逑刻蝕(Deep邋Reactive邋Ion邋Etching,邋DRIE)或者等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(Plasma-enha
【相似文獻(xiàn)】
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