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超微細(xì)柔性透明導(dǎo)電電路制作方法研究

發(fā)布時(shí)間:2020-07-15 10:33
【摘要】:隨著新一輪國際柔性印刷電子技術(shù)的發(fā)展,電路線寬要求越來越細(xì),對印刷電子材料及應(yīng)用技術(shù)提出了更高的要求。其關(guān)鍵是如何在更大幅面的柔性基板上,以更低的成本實(shí)現(xiàn)特征尺寸更小的柔性電子器件。隨著器件尺寸進(jìn)一步縮小,要求交聯(lián)導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)的線寬達(dá)納米量級。因此電路線寬特征尺寸在亞微米、甚至納米級的柔性導(dǎo)電電路的研制成為必然。本論文結(jié)合納米壓印技術(shù)和低維納米材料填充技術(shù),制作圖形化超微細(xì)柔性透明導(dǎo)電電路。首先利用課題組激光圖形化設(shè)備i Grapher,制作圖形化柔性透明基底。并采用低溫等離子體表面處理技術(shù),改變?nèi)嵝酝该骰腢V膠表面特性。然后采用納米涂布及刮涂技術(shù),使低維納米材料填充至網(wǎng)絡(luò)溝槽中,獲得微細(xì)金屬網(wǎng)格型透明導(dǎo)電薄膜。并對不同深寬比網(wǎng)絡(luò)溝槽的填充特性進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)研究。另外,在刮涂填充技術(shù)的基礎(chǔ)上,提出利用附加電場實(shí)現(xiàn)低維納米材料的可控性填充。實(shí)驗(yàn)表明,電場驅(qū)動(dòng)填充可明顯改善低維納米材料填充的方向選擇性,使得任意取向的溝槽結(jié)構(gòu)均獲得均勻填充,從而獲得導(dǎo)電性較高的超微細(xì)透明導(dǎo)電電路。本論文對超微細(xì)柔性透明導(dǎo)電電路的制作方法進(jìn)行研究,系統(tǒng)闡述了制作工藝流程,并提出利用電場驅(qū)動(dòng)填充網(wǎng)絡(luò)溝槽。為更高要求的柔性印刷電子的研制提供了技術(shù)工藝基礎(chǔ)。
【學(xué)位授予單位】:蘇州大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2015
【分類號】:TN405
【圖文】:

刮涂,深寬比,方向性,網(wǎng)柵


1:1另外,在進(jìn)行多次刮涂實(shí)驗(yàn)時(shí),還要注意刮涂的方向性

槽型,菱形,線寬


Eun線寬菱形槽型

SEM圖,電場驅(qū)動(dòng),溝槽,透明導(dǎo)電膜


一次填充即取得了較為理想的效果。1μm寬的溝槽內(nèi)部Ag顆粒均勻且連續(xù),而且從圖4-8-1可看出,填充效果不受網(wǎng)絡(luò)溝槽取向的影響,在相互垂直的兩個(gè)方向上填充效果未有明顯區(qū)別。說明采用電場驅(qū)動(dòng)方式不僅可以實(shí)現(xiàn)Ag顆粒的有效填充,同時(shí)還可以避免由刮涂方向引起的方向選擇性,那么我們就可以利用該方式進(jìn)行任意取向型(網(wǎng)絡(luò)溝槽以任意方式聯(lián)通,不僅限于垂直和六角結(jié)構(gòu))透明導(dǎo)電膜的制作。實(shí)物圖如圖4-9所示,表現(xiàn)出較好的透過率,下面對于制得的透明導(dǎo)電膜我們進(jìn)行進(jìn)一步的分析與測量。

【參考文獻(xiàn)】

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1 李欣;邵金友;田洪淼;劉紅忠;丁玉成;;電場誘導(dǎo)微結(jié)構(gòu)圖形化形成機(jī)理及常溫制備工藝[J];納米技術(shù)與精密工程;2010年06期



本文編號:2756376

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