【摘要】：集成電路的發(fā)展在過去數(shù)十年中一直遵循著摩爾定律。隨著半導(dǎo)體制造工藝的不斷進(jìn)步,集成電路的工藝節(jié)點(diǎn)不斷縮小。由于光源技術(shù)的發(fā)展落后,業(yè)界仍在集成電路制造過程中廣泛采用193納米波長(zhǎng)光源進(jìn)行光刻。光源波長(zhǎng)與集成電路特征尺寸之間的不匹配引發(fā)了能造成光刻成像畸變的光學(xué)鄰近效應(yīng)。為提高集成電路制造的良率,業(yè)界提出了大量分辨率增強(qiáng)技術(shù)。然而在亞波長(zhǎng)光刻條件下要完全避免光刻熱點(diǎn)是十分困難的。光刻熱點(diǎn)檢測(cè)已成為集成電路制造過程中一項(xiàng)必不可少的環(huán)節(jié)。本文圍繞著光刻熱點(diǎn)檢測(cè)展開了以下的研究工作。針對(duì)基于機(jī)器學(xué)習(xí)的光刻熱點(diǎn)檢測(cè)算法需要手工提取特征的問題,本文提出了一種基于VGG16的光刻熱點(diǎn)檢測(cè)算法。該算法首先基于VGG16卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)訓(xùn)練光刻熱點(diǎn)分類器,然后對(duì)版圖采用分類器滑窗檢測(cè)法獲得光刻熱點(diǎn)概率圖,最后提取光刻熱點(diǎn)概率高的區(qū)域中心坐標(biāo)作為光熱點(diǎn)檢測(cè)結(jié)果。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,該算法的平均召回率為94.4%,精確率為23.6%,提高了光刻熱點(diǎn)檢測(cè)精度。針對(duì)滑窗檢測(cè)法重復(fù)卷積運(yùn)算的問題,本文提出了一種基于Faster R-CNN并結(jié)合在線難例挖掘和軟性非極大值抑制的光刻熱點(diǎn)檢測(cè)算法。該算法首先采用候選區(qū)域建議網(wǎng)絡(luò)找出版圖中可能存在光刻熱點(diǎn)的候選區(qū)域,再將生成的候選區(qū)域送入Fast R-CNN獲得光刻熱點(diǎn)置信度和邊框位置。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,該算法進(jìn)一步有效地提高了光刻熱點(diǎn)檢測(cè)精度和效率,平均檢測(cè)耗時(shí)為0.6 h/mm2,召回率為96.1%,精確率可達(dá)40.3%。
【學(xué)位授予單位】：浙江大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2019
【分類號(hào)】：TN40;TP183
【圖文】：

早在２邋０世紀(jì)６邋０年代，業(yè)界根據(jù)過往集成電路的發(fā)展情況提出了著名的摩爾定律逡逑（Ｍｏｏｒｅ＇ｓ邋Ｕｗ），預(yù)言集成電路單位面積上可容納的元器件數(shù)目，約每隔１８－２４逡逑個(gè)月翻一倍，性能也將提高一倍１３］。如圖１．１所示，集成電路過去數(shù)十年的發(fā)展逡逑幾乎完全符合該論斷，摩爾定律也成為指導(dǎo)半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的重要經(jīng)驗(yàn)準(zhǔn)則１４）。逡逑２0．000．000．000逡逑１０．０００．０００邋ＯＴ０邐＾逡逑５．ＤＯＯ．ＯＯＯ．ＯＤＯ邐ｎ一＆逡逑ＶＯＯＯ．ＯＣＷＯＯＯ邐．逡逑５Ｇ０．Ｑ０００Ｄ０邐”ｗ：邐＼逡逑１００．ＣＯＱ．０００邐ｗ邋？邐１邋—邋＊逡逑－？0．000000邐，一逡逑５邐１０．０００邋００Ｄ逡逑ｙ．邋５．０００ｏｏｏ邐？逡逑？邋？逡逑Ｉ．ＯＯＯｆＸＫＪ邐＾邐＃逡逑令邐？逡逑＊．00000邋＊＊邐々逡逑５Ｃ．０００邐．？

本文編號(hào)：2719263