反Ⅰ型量子點(diǎn)可控合成及其發(fā)光二極管的研究
不同半導(dǎo)體材料的能級示意圖
[16]。根據(jù)半導(dǎo)體材料能級的相對位置,核/殼結(jié)構(gòu)的量子點(diǎn)可以分為Ⅰ-型、反Ⅰ-型、Ⅱ-型三類,,對應(yīng)的能級排列示意圖如圖1-2所示[17]。大帶隙殼層材料包覆在帶隙小的核材料外,構(gòu)成Ⅰ-型核/殼結(jié)構(gòu),能級特點(diǎn)是核半導(dǎo)體材料(殼)的導(dǎo)帶(價(jià)帶)能級低于(高于)殼層半導(dǎo)體材料的導(dǎo)帶(價(jià)帶),這樣的能級排布導(dǎo)致電子和空穴都限制在核內(nèi);與此同時(shí),其殼層被用于量子點(diǎn)表面態(tài)的鈍化,表面缺陷的修飾,減少缺陷發(fā)光過程,進(jìn)而提高量子點(diǎn)的發(fā)光效率。圖 1-2 反Ⅰ-型、Ⅰ-型和Ⅱ-型核/殼結(jié)構(gòu)量子點(diǎn)的能級排列示意圖如圖1-2所示,兩種形式的Ⅱ-型核/殼結(jié)構(gòu)的能級特點(diǎn)是其對應(yīng)的核材料的導(dǎo)帶(價(jià)帶)的能級同時(shí)高于(低于)殼層材料的導(dǎo)帶(價(jià)帶)能級,錯(cuò)位的能級排列形成核與殼層半導(dǎo)體材料的帶隙都小的有效發(fā)光帶隙,導(dǎo)致電子和空穴在整個(gè)核/殼量子點(diǎn)中離域
【學(xué)位授予單位】:南昌航空大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類號】:TN312.8
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本文編號:2711265
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