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反Ⅰ型量子點(diǎn)可控合成及其發(fā)光二極管的研究

發(fā)布時(shí)間:2020-06-13 13:44
【摘要】:高效量子點(diǎn)發(fā)光二極管不僅需要匹配的器件結(jié)構(gòu),也需要高性能的量子點(diǎn)材料。目前,量子點(diǎn)在溶液中熒光量子產(chǎn)率已經(jīng)接近100%,但是量子點(diǎn)成膜后,其熒光量子產(chǎn)率會急劇降低。研究發(fā)現(xiàn),量子點(diǎn)膜的量子產(chǎn)率直接決定了發(fā)光二極管器件的光電性能,因此提高量子點(diǎn)膜的熒光量子產(chǎn)率尤為重要。此外,量子點(diǎn)的內(nèi)部結(jié)構(gòu)對發(fā)光二極管器件中載流子傳輸性能的影響也是至關(guān)重要的,從量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)出發(fā),探索量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)對量子點(diǎn)發(fā)光二極管器件性能的影響也一直是國內(nèi)外研究的熱點(diǎn)。本論文從量子點(diǎn)內(nèi)部結(jié)構(gòu)為出發(fā)點(diǎn),一方面通過包殼修飾量子點(diǎn),提高其熒光量子產(chǎn)率,另一方面詮釋量子點(diǎn)的內(nèi)部結(jié)構(gòu)對量子點(diǎn)發(fā)光二極管器件中載流子傳輸以及光電性能的影響。本論文主要從以下三點(diǎn)研究內(nèi)容作具體的論述:(1)反Ⅰ型核/殼結(jié)構(gòu)量子點(diǎn)相比于Ⅰ型量子點(diǎn)具有波長可調(diào)范圍寬,有利于實(shí)現(xiàn)全色彩的顯示。更為重要的是,反I型量子點(diǎn)由于其特殊的能級排布,電子空穴布居于外殼層,并在外殼層進(jìn)行輻射復(fù)合,這有利于電子、空穴直接注入,提升器件的電流密度。然而,迄今關(guān)于反I型量子點(diǎn)應(yīng)用于發(fā)光二極管的研究鮮見報(bào)道。在此,我們設(shè)計(jì)合成了具有61%量子產(chǎn)率的Cd_(0.1)Zn_(0.9)S/CdSe反Ⅰ型量子點(diǎn),實(shí)現(xiàn)了450 nm-670 nm的波長可調(diào)。隨后通過合成Ⅰ型的CdSe/Cd_(0.1)Zn_(0.9)S量子點(diǎn),并組裝了量子點(diǎn)發(fā)光二極管器件。研究發(fā)現(xiàn)雖然反Ⅰ型Cd_(0.1)Zn_(0.9)S/CdSe量子點(diǎn)的量子產(chǎn)率較低,但是其發(fā)光器件的外量子效率和亮度(8.23%和11412 cd/m~2)均高于對應(yīng)的Ⅰ型量子點(diǎn)發(fā)光二極管器件的性能。主要是因?yàn)榉储裥土孔狱c(diǎn)無需克服外殼層的高勢壘,更利于載流子注入發(fā)光核心,因此使得量子點(diǎn)發(fā)光二極管器件光電性能得以提高。(2)通過量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)的調(diào)整改善器件中載流子傳輸平衡狀態(tài)是提高器件發(fā)光效率的有效途徑之一。我們在反Ⅰ型Cd_(0.1)Zn_(0.9)S/CdSe量子點(diǎn)的基礎(chǔ)上,選擇CdS作為殼層材料,一方面提高量子點(diǎn)的熒光量子產(chǎn)率,設(shè)計(jì)并合成了具有76%量子產(chǎn)率的Cd_(0.1)Zn_(0.9)S/CdSe/CdS量子點(diǎn);另一方面,通過調(diào)整CdSe層和CdS層的厚度,探索最佳電荷傳輸平衡狀態(tài)下的該量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)。隨后通過在相同的器件結(jié)構(gòu)下對比Cd_(0.1)Zn_(0.9)S/CdSe/CdS和CdSe/CdS量子點(diǎn)的電致發(fā)光器件,發(fā)現(xiàn)優(yōu)化后的Cd_(0.1)Zn_(0.9)S/CdSe/CdS量子點(diǎn)的熒光量子產(chǎn)率仍然較低,但是其對應(yīng)量子點(diǎn)發(fā)光二極管器件的最大外量子效率是12.44%,這遠(yuǎn)大于CdSe/CdS基的4.1%,這主要是得益于量子點(diǎn)內(nèi)部結(jié)構(gòu)的優(yōu)化使得器件的電荷注入與傳輸更加平衡。(3)研究發(fā)現(xiàn),核殼量子點(diǎn)的熒光量子產(chǎn)率與量子點(diǎn)本身的晶格缺陷有關(guān)。晶格缺陷會導(dǎo)致缺陷態(tài)的形成,這樣會產(chǎn)生很多非輻射復(fù)合通道。電子空穴可由這些通道進(jìn)行無輻射遲豫,對光子生成沒有任何貢獻(xiàn),能量以熱的形式釋放,進(jìn)而造成器件的穩(wěn)定性降低。近期研究表明,多層核殼結(jié)構(gòu)的量子點(diǎn)在生長過程中的晶格內(nèi)部應(yīng)力是形成晶格缺陷的主要原因之一。現(xiàn)有多層核殼量子點(diǎn)體系多集中于II/IV二元量子點(diǎn),難于有效控制各層的晶格參數(shù),減小內(nèi)部應(yīng)力及缺陷態(tài)。因此,我們采用三元合金量子點(diǎn)體系調(diào)控各層的晶格常數(shù),設(shè)計(jì)了一種緩解晶格應(yīng)變壓力的高熒光量子產(chǎn)率多殼層量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)。由于緩解了晶格應(yīng)變壓力,我們合成了厚殼層的量子點(diǎn),增大了量子點(diǎn)成膜后的點(diǎn)間距離,抑制了量子點(diǎn)間耦合,因此成膜后的量子產(chǎn)率也大大提高;通過對比基于三種不同殼層厚度下量子點(diǎn)發(fā)光二極管的器件性能對比分析發(fā)現(xiàn),量子點(diǎn)殼層厚度在7.5 nm下器件的亮度和外量子效率達(dá)到153632.2 cd/m~2和19.25%,遠(yuǎn)優(yōu)于薄殼層量子點(diǎn)發(fā)光二極管的器件光電性能。進(jìn)一步表明,量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)的改變在提高量子點(diǎn)發(fā)光二極管器件光電性能方面發(fā)展?jié)摿薮蟆?br>【圖文】:

示意圖,半導(dǎo)體材料,能級,示意圖


不同半導(dǎo)體材料的能級示意圖

示意圖,殼結(jié)構(gòu),能級,示意圖


[16]。根據(jù)半導(dǎo)體材料能級的相對位置,核/殼結(jié)構(gòu)的量子點(diǎn)可以分為Ⅰ-型、反Ⅰ-型、Ⅱ-型三類,,對應(yīng)的能級排列示意圖如圖1-2所示[17]。大帶隙殼層材料包覆在帶隙小的核材料外,構(gòu)成Ⅰ-型核/殼結(jié)構(gòu),能級特點(diǎn)是核半導(dǎo)體材料(殼)的導(dǎo)帶(價(jià)帶)能級低于(高于)殼層半導(dǎo)體材料的導(dǎo)帶(價(jià)帶),這樣的能級排布導(dǎo)致電子和空穴都限制在核內(nèi);與此同時(shí),其殼層被用于量子點(diǎn)表面態(tài)的鈍化,表面缺陷的修飾,減少缺陷發(fā)光過程,進(jìn)而提高量子點(diǎn)的發(fā)光效率。圖 1-2 反Ⅰ-型、Ⅰ-型和Ⅱ-型核/殼結(jié)構(gòu)量子點(diǎn)的能級排列示意圖如圖1-2所示,兩種形式的Ⅱ-型核/殼結(jié)構(gòu)的能級特點(diǎn)是其對應(yīng)的核材料的導(dǎo)帶(價(jià)帶)的能級同時(shí)高于(低于)殼層材料的導(dǎo)帶(價(jià)帶)能級,錯(cuò)位的能級排列形成核與殼層半導(dǎo)體材料的帶隙都小的有效發(fā)光帶隙,導(dǎo)致電子和空穴在整個(gè)核/殼量子點(diǎn)中離域
【學(xué)位授予單位】:南昌航空大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類號】:TN312.8

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