鹵化銫鉛鈣鈦礦量子點(diǎn)電致發(fā)光器件的研究
【圖文】:
圖 1.3 (A)LED 的代表性器件結(jié)構(gòu);(B)相應(yīng)的 LED 的能級(jí)結(jié)構(gòu)圖。本圖引自[16]。Figure 1.3 (A) Representative device structure of the LED; (B) Energy level structurediagram of the corresponding LED. This image is taken from ref[16].LED 的活性層就是產(chǎn)生光的地方,即注入的電子和空穴相遇并輻射發(fā)光的位置。不同類(lèi)型的 LEDs 中應(yīng)用不同的活性層結(jié)構(gòu):如上述我們提到的 OLED,活性層是由一個(gè)窄帶隙材料-寬帶隙材料組成的,兩種材料形成了主體-客體結(jié)構(gòu);量子點(diǎn) LED 的活性層通常由量子點(diǎn)薄膜形成;而鈣鈦礦 LED 則由不同結(jié)構(gòu)的鈣鈦礦半導(dǎo)體薄膜形成。在本論文中,我們主要研究以鈣鈦礦量子點(diǎn)薄膜為活性層的 LED 器件。1.2.2 電子和空穴的復(fù)合機(jī)制半導(dǎo)體中電子和空穴的復(fù)合機(jī)制可以分為兩類(lèi):直接復(fù)合和間接復(fù)合。
圖 1.4: (a)直接帶隙半導(dǎo)體的能級(jí)結(jié)構(gòu)圖和直接復(fù)合過(guò)程;(b)間接帶隙半導(dǎo)體的能級(jí)圖和復(fù)合過(guò)程。本圖來(lái)自于引文[17]。Figure 1.4 Energy level diagram and direct recombination process in (a) directbandgap semiconductor and (b) indirect bandgap semiconductor. This figure is takenfrom ref[17].間接復(fù)合:與直接帶隙半導(dǎo)體不同,間接帶隙半導(dǎo)體中,導(dǎo)帶最小值與價(jià)帶最大值不在k 空間的同一位置,而 k 向量的不同意味著其動(dòng)量不相同。在這類(lèi)材料中,為了滿足動(dòng)量守恒和能量守恒的原則,導(dǎo)帶底和價(jià)帶頂部之間的躍遷過(guò)程通常包含聲子的吸收和發(fā)射,而電子、空穴、聲子三粒子參與,降低了其復(fù)合效率。間接復(fù)合的另一種形式是在材料體系中引入額外的摻雜中心,形成淺陷阱能級(jí),,俘獲局部載流子,從而實(shí)現(xiàn)與另一類(lèi)型的載流子動(dòng)量相同。這類(lèi)淺能級(jí)態(tài)通常稱(chēng)為復(fù)合
【學(xué)位授予單位】:吉林大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類(lèi)號(hào)】:TN383.1;O471.1
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本文編號(hào):2708441
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