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0.6V 40nm低電壓標(biāo)準(zhǔn)單元庫設(shè)計

發(fā)布時間:2017-03-27 17:00

  本文關(guān)鍵詞:0.6V 40nm低電壓標(biāo)準(zhǔn)單元庫設(shè)計,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。


【摘要】:降低工作電壓已成為提高CMOS電路能效的有效方法,研究表明,當(dāng)前工藝中電路最高效能點出現(xiàn)在近閾值工作區(qū)域附近。但是,近閾值標(biāo)準(zhǔn)單元的性能比正常電壓的惡化10倍,限制了系統(tǒng)的性能。因此,本文對近閾值高性能標(biāo)準(zhǔn)單元的設(shè)計展開研究。尺寸和版圖均會對近閾值標(biāo)準(zhǔn)單元的性能產(chǎn)生50%的影響;谠撎攸c,本論文對近閾值標(biāo)準(zhǔn)單元進行多參數(shù)聯(lián)合設(shè)計優(yōu)化,包括:(1)針對寬度、叉指數(shù)、阱邊界位置等影響性能的關(guān)鍵設(shè)計參數(shù)和尺寸調(diào)節(jié)、凸?fàn)钰褰Y(jié)構(gòu)等可行性設(shè)計方案均進行全面優(yōu)化,保證設(shè)計出最優(yōu)標(biāo)準(zhǔn)單元。 (2)建立近閾值標(biāo)準(zhǔn)單元設(shè)計數(shù)學(xué)優(yōu)化模型,包括設(shè)計變量、延時模型、面積模型和目標(biāo)函數(shù)。該模型將版圖對性能和面積的影響量化,實現(xiàn)參數(shù)設(shè)計和版圖設(shè)計同時優(yōu)化。(3)針對不同的延時面積折中目標(biāo),完成標(biāo)準(zhǔn)單元的設(shè)計。此外,針對近閾值標(biāo)準(zhǔn)單元建庫,本論文提出將建庫激勵波形分段表示,并基于大量實際電路確定分段系數(shù)。該方法將標(biāo)準(zhǔn)單元庫的時序準(zhǔn)確性提高到6.8%。本文在SMIC 40nm工藝下完成0.6V低電壓標(biāo)準(zhǔn)單元庫的設(shè)計與指標(biāo)驗證,驗證指標(biāo)包括延時、能量、能量延時積和面積,驗證方法為利用基準(zhǔn)測試電路分別采用設(shè)計庫和工藝廠原始庫進行綜合和電路指標(biāo)對比。結(jié)果表明,采用目標(biāo)函數(shù)D7A設(shè)計的標(biāo)準(zhǔn)單元庫綜合時,電路的延時平均減少16.47%,能耗平均減少30.38%,能量延時積減少41.86%,面積平均增加15.8%。
【關(guān)鍵詞】:近閾值 標(biāo)準(zhǔn)單元庫 高性能 時序準(zhǔn)確性
【學(xué)位授予單位】:東南大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2016
【分類號】:TN402
【目錄】:
  • 摘要5-6
  • Abstract6-9
  • 第一章 緒論9-15
  • 1.1 課題研究背景和意義9-10
  • 1.2 國內(nèi)外研究現(xiàn)狀10-13
  • 1.3 論文研究內(nèi)容及意義13
  • 1.4 論文組織結(jié)構(gòu)13-15
  • 第二章 標(biāo)準(zhǔn)單元庫設(shè)計基礎(chǔ)15-26
  • 2.1 標(biāo)準(zhǔn)單元指標(biāo)15-17
  • 2.2 標(biāo)準(zhǔn)單元版圖規(guī)格17-18
  • 2.3 標(biāo)準(zhǔn)單元版圖寄生效應(yīng)18-22
  • 2.3.1 阱邊界接近效應(yīng)18-20
  • 2.3.2 淺槽隔離壓力效應(yīng)20-21
  • 2.3.3 寄生電容21-22
  • 2.4 近閾值標(biāo)準(zhǔn)單元特征22-24
  • 2.4.1 性能惡化22
  • 2.4.2 上升下降延時不平衡22-23
  • 2.4.3 溫度反型效應(yīng)23
  • 2.4.4 版圖寄生效應(yīng)影響嚴(yán)重23-24
  • 2.5 本章小結(jié)24-26
  • 第三章 近閾值標(biāo)準(zhǔn)單元設(shè)計26-55
  • 3.1 近閾值標(biāo)準(zhǔn)單元性能惡化分析26-28
  • 3.2 標(biāo)準(zhǔn)單元設(shè)計參數(shù)28-30
  • 3.3 標(biāo)準(zhǔn)單元設(shè)計方案30-31
  • 3.4 標(biāo)準(zhǔn)單元設(shè)計數(shù)學(xué)優(yōu)化模型31-46
  • 3.4.1 設(shè)計變量32
  • 3.4.2 延時模型32-45
  • 3.4.3 面積模型45-46
  • 3.4.4 目標(biāo)函數(shù)46
  • 3.5 標(biāo)準(zhǔn)單元設(shè)計與結(jié)果46-54
  • 3.6 本章小結(jié)54-55
  • 第四章 近閾值標(biāo)準(zhǔn)單元建庫55-61
  • 4.1 建庫方法概述55-57
  • 4.1.1 標(biāo)準(zhǔn)單元建庫流程55
  • 4.1.2 單元庫時序準(zhǔn)確性55-56
  • 4.1.3 時序準(zhǔn)確性——建庫因素56-57
  • 4.2 近閩值標(biāo)準(zhǔn)單元建庫激勵波形57-59
  • 4.3 單元庫時序準(zhǔn)確性驗證59-60
  • 4.4 本章小結(jié)60-61
  • 第五章 近閾值標(biāo)準(zhǔn)單元庫驗證61-68
  • 5.1 標(biāo)準(zhǔn)單元庫驗證方法61-62
  • 5.2 驗證結(jié)果與討論62-67
  • 5.2.1 標(biāo)準(zhǔn)單元庫指標(biāo)對比62-65
  • 5.2.2 性能討論65-66
  • 5.2.3 文獻對比66-67
  • 5.2.4 設(shè)計規(guī)則總結(jié)67
  • 5.3 本章小結(jié)67-68
  • 第六章 總結(jié)與展望68-69
  • 6.1 總結(jié)68
  • 6.2 展望68-69
  • 致謝69-70
  • 參考文獻70-73
  • 作者簡介73

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  本文關(guān)鍵詞:0.6V 40nm低電壓標(biāo)準(zhǔn)單元庫設(shè)計,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

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本文編號:270692

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