1200V薄晶圓高擊穿魯棒性FS-IGBT設(shè)計(jì)
發(fā)布時(shí)間:2020-06-09 02:11
【摘要】:絕緣柵雙極型晶體管(Insulated Gate Bipolar Transistor,IGBT)具有導(dǎo)通壓降小、電流密度大、耐壓高、開關(guān)速度快及熱穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn),在電力電子系統(tǒng)中得到了廣泛的應(yīng)用。薄晶圓場截止型IGBT(Field Stop IGBT,FS-IGBT)由于其低損耗已成為當(dāng)前設(shè)計(jì)發(fā)展的主流,但其存在擊穿魯棒性較低的問題。本文旨在解決1200V薄晶圓FS-IGBT的低擊穿魯棒性問題。本文首先介紹了FS-IGBT的工作原理、制備工藝流程,以及樣品芯片的結(jié)構(gòu)尺寸等基本信息。其次,對樣品芯片進(jìn)行了擊穿特性測試,發(fā)現(xiàn)原有FS-IGBT芯片在擊穿電流達(dá)到1mA時(shí)會(huì)發(fā)生失效。本文對此失效機(jī)理進(jìn)行了深入研究,發(fā)現(xiàn)FS-IGBT擊穿失效主要發(fā)生在終端過渡區(qū)和元胞區(qū)。FS-IGBT在終端過渡區(qū)失效的原因是過渡區(qū)深溝槽底部與終端區(qū)場限環(huán)結(jié)彎曲處的局部電場集中效應(yīng)形成擊穿薄弱點(diǎn);在元胞區(qū)的失效主要是由于FS-IGBT器件存在嚴(yán)重的擊穿負(fù)阻特性,進(jìn)而導(dǎo)致電流集中效應(yīng)。再次,本文優(yōu)化設(shè)計(jì)了一款高擊穿魯棒性的FS-IGBT器件,在終端過渡區(qū)設(shè)置了帶有零電位的深P-ring環(huán),消除了終端過渡區(qū)的擊穿薄弱點(diǎn),在元胞區(qū)采用了溝槽柵底部帶有重?fù)诫s薄N型層的電場調(diào)制型IGBT(Electric Field Modulation IGBT,EFM-IGBT)元胞結(jié)構(gòu),改善了FS-IGBT擊穿負(fù)阻特性與導(dǎo)通壓降的折中關(guān)系,從而實(shí)現(xiàn)降低器件導(dǎo)通損耗的同時(shí),提升器件的擊穿魯棒性。流片測試結(jié)果表明:所設(shè)計(jì)的FS-IGBT器件擊穿電壓為1250V,在電流密度100A/cm~2下的導(dǎo)通壓降為1.478V,擊穿失效電流大于8mA,各項(xiàng)參數(shù)均達(dá)到設(shè)計(jì)指標(biāo)。
【圖文】:
東南大學(xué)工程碩士學(xué)位論文非常突出的優(yōu)點(diǎn):采用單晶襯底,對于高壓 IGBT 而言,成本得到控制;背面 P 型集電極區(qū)的摻雜濃度遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于 PT-IGBT 的集電極,從而集電極的注入效率降低,無需壽命控制技術(shù)來減小關(guān)斷損耗和關(guān)斷時(shí)間這樣減少了壽命控制的成本;且此時(shí)襯底層相對變薄,器件的熱阻得到降低,有利于器件散熱。繼而又演變出了結(jié)合透明集電極技術(shù)的 LPT-IGBT 用于改善器件的開關(guān)特性,其晶圓厚度進(jìn)一步減薄,如圖 1-1(所示。2000 年,工程師提出了 FS-IGBT[1],它在背面減薄之后進(jìn)行硼離子注入之前做一個(gè) N+緩沖層,該緩沖層的引入使得電場強(qiáng)度在此層中迅速減小到零而實(shí)現(xiàn)電場截止,從而漂移區(qū)整體電場近似呈梯形分布極大地減小了漂移區(qū)的厚度,如圖 1-1(d)所示。
第一章 緒論,因此平面柵結(jié)構(gòu)在高壓 IGBT(3300V 及以上電壓等級)中被普遍采后,柵電容能夠進(jìn)一步降低且其他的電學(xué)特性也可以得到改進(jìn),如柵存全工作區(qū)測試中的柵電壓過沖減小等。而溝槽柵結(jié)構(gòu)將溝道從橫向變 區(qū)電阻的影響,且元胞密度增大,更有利于實(shí)現(xiàn)低功耗,因此溝槽柵以下電壓等級)產(chǎn)品中。但是實(shí)際工藝中溝槽刻蝕后硅表面粗糙,,會(huì)集中,影響擊穿電壓,而且溝槽柵結(jié)構(gòu)使得多晶硅柵面積增加,柵電容會(huì)導(dǎo)致其短路能力降低等。
【學(xué)位授予單位】:東南大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號】:TN322.8
本文編號:2704018
【圖文】:
東南大學(xué)工程碩士學(xué)位論文非常突出的優(yōu)點(diǎn):采用單晶襯底,對于高壓 IGBT 而言,成本得到控制;背面 P 型集電極區(qū)的摻雜濃度遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于 PT-IGBT 的集電極,從而集電極的注入效率降低,無需壽命控制技術(shù)來減小關(guān)斷損耗和關(guān)斷時(shí)間這樣減少了壽命控制的成本;且此時(shí)襯底層相對變薄,器件的熱阻得到降低,有利于器件散熱。繼而又演變出了結(jié)合透明集電極技術(shù)的 LPT-IGBT 用于改善器件的開關(guān)特性,其晶圓厚度進(jìn)一步減薄,如圖 1-1(所示。2000 年,工程師提出了 FS-IGBT[1],它在背面減薄之后進(jìn)行硼離子注入之前做一個(gè) N+緩沖層,該緩沖層的引入使得電場強(qiáng)度在此層中迅速減小到零而實(shí)現(xiàn)電場截止,從而漂移區(qū)整體電場近似呈梯形分布極大地減小了漂移區(qū)的厚度,如圖 1-1(d)所示。
第一章 緒論,因此平面柵結(jié)構(gòu)在高壓 IGBT(3300V 及以上電壓等級)中被普遍采后,柵電容能夠進(jìn)一步降低且其他的電學(xué)特性也可以得到改進(jìn),如柵存全工作區(qū)測試中的柵電壓過沖減小等。而溝槽柵結(jié)構(gòu)將溝道從橫向變 區(qū)電阻的影響,且元胞密度增大,更有利于實(shí)現(xiàn)低功耗,因此溝槽柵以下電壓等級)產(chǎn)品中。但是實(shí)際工藝中溝槽刻蝕后硅表面粗糙,,會(huì)集中,影響擊穿電壓,而且溝槽柵結(jié)構(gòu)使得多晶硅柵面積增加,柵電容會(huì)導(dǎo)致其短路能力降低等。
【學(xué)位授予單位】:東南大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號】:TN322.8
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本文編號:2704018
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