GaN基RCLED的研究
發(fā)布時間:2020-05-31 20:26
【摘要】:GaN材料作為一種寬禁帶半導體材料、相比于其他半導體材料具有許多突出的特點比如高電子漂移飽和速度、良好的導熱性能、化學穩(wěn)定性高,這是如此得到了快速的發(fā)展和被廣泛應用于各個領域。目前針對LED器件,研究的主題聚焦于高亮度、大功率、高效率和高可靠性等方向。而GaN基諧振腔二極管(RCLED)具有高亮度、高效率、光譜線寬窄、溫度穩(wěn)定性高、發(fā)射方向性良好、高帶寬、制作成本低等諸多優(yōu)點,在照明、傳感、可見光通信等領域具有廣闊的應用前景。RCLED是普通LED和垂直腔面發(fā)射激光器(VCSEL)—個很好的折中和選擇。隨著對RCLED研究的不斷深入,其性能得到了不斷的提高,由于自身結構的特殊性,還有許多值得提高的地方。全面理解和掌握器件性能隨著諧振腔結構的變化規(guī)律,提高器件的發(fā)光效率,提高器件的光功率,以及降低工作電壓等已成為研究的重點。本文圍繞GaN基RCLED的研制,在諧振腔理論分析、結構設計、器件制作、性能測試等多方面進行了分析和研究。本文的主要研究工作總結如下:1.器件結構設計與分析:從理論上對諧振腔的概念、微腔效應進行了詳細的說明。討論了兩個重要的參數(shù),諧振波長處的光譜增強因子Ge和整體輻射增強因子Gint,及其與諧振腔中上下反射鏡反射率之間的關系,并進一步對提取效率增強值與上下反射鏡反射率之間的關系進行了相關理論計算和模擬。2.器件的制備:利用電鍍和激光剝離技術在銅襯底上制備了 GaN基RCLED,采用了 Ti02/Si02介質分布布拉格反射鏡(DBR)和金屬鋁分別作為上下反射鏡。為了進一步研究頂部DBR反射率對效率等器件特性的影響,設計了三種頂部DBR結構分別為2對、3對及3.5對Ti02/SiO2DBR。3.器件性能測試與分析:與沒有上DBR反射鏡的傳統(tǒng)LED相比,由于諧振腔效應,RCLED器件的性能得到了改善。通過調(diào)整上DBR的反射率,獲得了最佳DBR器件,其頂部DBR反射率為55%,器件最大輸出光功率為62mW,外量子效率為14.8%,半高寬為12nm,半強度角為122°,f.3dB調(diào)制帶寬為48MJHz。此結果表明,優(yōu)化反射鏡設計對于未來高性能器件應用有著很好的前景。
【圖文】:
邋^邋Sfh、逡逑圖1.1邋RCLED基本結構原理圖邐圖1.2首只RCLED圖片逡逑1.2RGLED的發(fā)展歷史與應用逡逑在21世紀90年代早期,光學諧振腔的結構被引入到了邋LXD的設計中,使逡逑得LED的發(fā)光效率和光功率都有很大程度的增加。1992年,貝爾實驗室Schubert逡逑等人根據(jù)F-P腔的概念構造出了一種新型LED結構一共振腔發(fā)光二極管,第一逡逑次在GaAs材料系實現(xiàn)[8],并提出把RCLED用于通信領域,如圖1.2所示為首只逡逑RCLED照片。在1995年,De邋Neve等人制作出來第一只發(fā)射波長為980nm的且逡逑效率為23%的RCLED191。在1999年,通過Wierer的優(yōu)化,其外景子效率能夠達逡逑3逡逑
是介質膜DBR不導電,電流無法從器件上下兩端導通,在工藝上需要作出改變,,逡逑比如利用鍵合技術和激光剝離技術,將n電極和p電極放置在器件的同一側。一逡逑般的藍光RCLED的結構原理圖如圖1.3所示。另外,對于在藍寶石基底上生長逡逑得到的GaN基RCLED,橫向電流往往會引起電流擁擠效應,通過使用銦錫氧化逡逑物(ITO)作為電流擴展層,使電流能夠在橫向方向均勻地擴散。一種方法是利逡逑用激光剝離技術去除藍寶石襯底和襯底轉移技術制備垂直結構的RCLED,為了逡逑能夠使光產(chǎn)生諧振,需要通過拋光或刻蝕工藝來控制樣品的厚度。另外相對簡單逡逑的一種方法是使用電流限制結構,其主要包括氧化硅/氮化硅絕緣層、肖特基勢逡逑壘或者通過選擇性氧化或等離子體處理形成的高電阻區(qū)域的方法。例如2014年逡逑的臺灣科技大學光電工程研究所通過擴散工藝制備了出5|^m硅限制型結構的逡逑RCLED[24],如圖邋1.4邋所示。逡逑DBR邐p-type邋electrode逡逑ITO邋transparent邋contact^^邐insu|ahng邋|ayer逡逑P-GaN邐■邋|aGaN邋MQWs逡逑N-type邋electrode邐—邋piaS邋一邋雪逡逑.邋二)■:.…邋,篇逡逑0BR邋|^^te
【學位授予單位】:廈門大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2018
【分類號】:TN312.8
本文編號:2690412
【圖文】:
邋^邋Sfh、逡逑圖1.1邋RCLED基本結構原理圖邐圖1.2首只RCLED圖片逡逑1.2RGLED的發(fā)展歷史與應用逡逑在21世紀90年代早期,光學諧振腔的結構被引入到了邋LXD的設計中,使逡逑得LED的發(fā)光效率和光功率都有很大程度的增加。1992年,貝爾實驗室Schubert逡逑等人根據(jù)F-P腔的概念構造出了一種新型LED結構一共振腔發(fā)光二極管,第一逡逑次在GaAs材料系實現(xiàn)[8],并提出把RCLED用于通信領域,如圖1.2所示為首只逡逑RCLED照片。在1995年,De邋Neve等人制作出來第一只發(fā)射波長為980nm的且逡逑效率為23%的RCLED191。在1999年,通過Wierer的優(yōu)化,其外景子效率能夠達逡逑3逡逑
是介質膜DBR不導電,電流無法從器件上下兩端導通,在工藝上需要作出改變,,逡逑比如利用鍵合技術和激光剝離技術,將n電極和p電極放置在器件的同一側。一逡逑般的藍光RCLED的結構原理圖如圖1.3所示。另外,對于在藍寶石基底上生長逡逑得到的GaN基RCLED,橫向電流往往會引起電流擁擠效應,通過使用銦錫氧化逡逑物(ITO)作為電流擴展層,使電流能夠在橫向方向均勻地擴散。一種方法是利逡逑用激光剝離技術去除藍寶石襯底和襯底轉移技術制備垂直結構的RCLED,為了逡逑能夠使光產(chǎn)生諧振,需要通過拋光或刻蝕工藝來控制樣品的厚度。另外相對簡單逡逑的一種方法是使用電流限制結構,其主要包括氧化硅/氮化硅絕緣層、肖特基勢逡逑壘或者通過選擇性氧化或等離子體處理形成的高電阻區(qū)域的方法。例如2014年逡逑的臺灣科技大學光電工程研究所通過擴散工藝制備了出5|^m硅限制型結構的逡逑RCLED[24],如圖邋1.4邋所示。逡逑DBR邐p-type邋electrode逡逑ITO邋transparent邋contact^^邐insu|ahng邋|ayer逡逑P-GaN邐■邋|aGaN邋MQWs逡逑N-type邋electrode邐—邋piaS邋一邋雪逡逑.邋二)■:.…邋,篇逡逑0BR邋|^^te
【學位授予單位】:廈門大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2018
【分類號】:TN312.8
【參考文獻】
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1 李為軍;;提高GaN基發(fā)光二極管外量子效率的途徑[J];中國照明電器;2010年03期
2 楊臻;李建軍;康玉柱;宋小偉;;可見光共振腔發(fā)光二極管原理及發(fā)展概況[J];激光與光電子學進展;2008年12期
3 毛興武;;LED的發(fā)展與應用[J];電子元器件應用;2005年10期
本文編號:2690412
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