CsPbX3鈣鈦礦LED制備及器件穩(wěn)定性研究
發(fā)布時間:2020-05-28 08:18
【摘要】:近年來,鈣鈦礦量子點(diǎn)因其優(yōu)越的光電性能引起了廣泛的關(guān)注,全無機(jī)鈣鈦礦量子點(diǎn)CsPbX3(X=Cl,Br,I)具有更好的穩(wěn)定性,量子產(chǎn)率高、半峰寬窄、色純度高、色域廣、能耗低等優(yōu)勢成為新一代量子點(diǎn)顯示技術(shù)(QLED)的核心材料。然而目前對材料表面配體及鈣鈦礦層薄膜等問題的研究還存在不足,量子點(diǎn)表面長鏈的配體阻礙了載流子的傳輸,旋涂法制備的薄膜性能較差,缺陷較多。本文通過考察量子點(diǎn)濃度、薄膜退火溫度、表面配體數(shù)量對薄膜形貌及LED性能的影響,采用聚氧化乙烯(PEO)摻雜的方法,提高了CsPbBr3薄膜的性能,制備了紅、綠、藍(lán)LED發(fā)光器件。論文主要研究內(nèi)容如下:(1)利用“熱注入法”合成了CsPbX3(X=Cl,Br,I)全無機(jī)鈣鈦礦量子點(diǎn),并通過改變鹵素原子的種類及比例,使得CsPbX3(X=Cl,Br,I)量子點(diǎn)發(fā)光在可見光范圍(400-700 nm)內(nèi)可調(diào)。制備了波長分別為692 nm、516 nm、408 nm的紅、綠、藍(lán)三種全無機(jī)鈣鈦礦量子點(diǎn)LED器件,為全無機(jī)鈣鈦礦量子點(diǎn)LED在白光照明領(lǐng)域上的應(yīng)用提供了參考。(2)考察了量子點(diǎn)表面配體數(shù)量、量子點(diǎn)濃度及退火溫度等工藝參數(shù)對量子點(diǎn)層薄膜形貌及LED性能參數(shù)的影響。發(fā)現(xiàn)隨著清洗次數(shù)的增加,量子點(diǎn)表面的配體的數(shù)量逐漸減少;隨著量子點(diǎn)濃度的增加,LED效率先升高后降低;退火溫度提高,薄膜的缺陷增多,粗糙度增加。當(dāng)量子點(diǎn)配體清洗兩次,量子點(diǎn)濃度為20 mg/ml,退火溫度為20 ℃,鈣鈦礦LED表現(xiàn)出的性能最優(yōu)。(3)利用“一步法”制備了CsPbBr3鈣鈦礦薄膜,通過PEO摻雜的方法優(yōu)化了薄膜表面形貌,減少了表面缺陷,得到高量子產(chǎn)率、高致密性、低粗糙度的CsPbBr3薄膜,考察了PEO摻雜濃度對鈣鈦礦薄膜表面形貌及LED器件性能的影響,并從熒光強(qiáng)度、鈣鈦礦層薄膜性能、熒光壽命等方面對實(shí)驗結(jié)果進(jìn)行解析,發(fā)現(xiàn)隨PEO摻雜濃度的增加,LED性能先升高后降低,原因是摻雜過后減少了薄膜表面缺陷,導(dǎo)致激子輻射復(fù)合率增加,而濃度過高則其導(dǎo)電性下降。得到優(yōu)化的鈣鈦礦LED,其最大亮度和外量子效率分別為1223 cd/m2和0.26%,比未摻雜PEO的器件性能提升了5倍以上。
【圖文】:
代顯示技術(shù)發(fā)展的趨勢。從1993年至今,關(guān)于量子點(diǎn)材料的研宄已經(jīng)由最開始的逡逑CdSe/ZnS鎘系量子點(diǎn)逐漸向發(fā)展空間更大的鈣鈦礦量子點(diǎn)轉(zhuǎn)移。而目前,在顯示領(lǐng)域逡逑常見的幾種量子點(diǎn)中(圖1.1),鈣鈦礦量子點(diǎn)由于具有較高的量子產(chǎn)率、半峰寬窄、載流逡逑子傳輸速率快、帶隙可調(diào)、色域廣、成本低等特點(diǎn)[3_8],因此在光電顯示領(lǐng)域,有著巨逡逑大的應(yīng)用前景,有望成為新一代顯示技術(shù)的核心材料。逡逑1卜W族邐U1 ̄V族邐ABX,型邐ABX,斟逡逑CdSe/ZnS邐InP/ZnS邐CsPbX,邐CH3NH3PbX3逡逑BRSII邋i邐_邋二■HBB逡逑\w邋y邋R斟澹椋輳浚蟈錡逡逑*邋’邐Wavelength邋nm邐Wavelength邋mn邐Wavclcngtli邋nni逡逑t_邐L,邐_I逡逑1993邐2002邐2015逡逑t‘峰寬:30?50邋nm邐、卜?峰寬:40?60邋nm邐丨辨寬: ̄20-40邋nm逡逑鯪子效率:60%?90°/。邋|欨子效率:50°/。?70%邐|邋M子效率:60%?90%逡逑圖l.i在顯示器件中具有重要應(yīng)用前景的幾類量子點(diǎn)i9i逡逑Figure邋1.1邋Several邋potential邋quantum邋dots邋for邋display邋applications191逡逑鈣鈦礦量子點(diǎn)發(fā)光二極管(PeLEDs)是一種具有新型結(jié)構(gòu)的薄膜發(fā)光顯示器件(圖逡逑1.2),與傳統(tǒng)的鎘系核殼量子點(diǎn)相比較,全無機(jī)鈣鈦礦材料的發(fā)射峰半峰寬較窄(20邋nm-逡逑40mn)
-7邋-J邐MAPbl邋xSnxl3逡逑圖1.4不同鈣鈦礦材料能級圖1391逡逑Figure邋1.4邋The邋energy邋gap邋of邋perovskite邋materials邋with邋different邋compositions1'91逡逑1.3全無機(jī)鈣鈦礦量子點(diǎn)介紹逡逑1.3.1邋CsPbX3邋(X=C1,邋Br,邋I)性能介紹逡逑量子點(diǎn)的定義如下:在三維尺度上,尺寸大小在1邋-20邋nm之間的納米晶體。根據(jù)逡逑納米晶體顆粒大小,可以分為:(1)零維材料,通常以納米顆粒的形式存在;(2)—維逡逑材料,通常以納米棒、納米線等形式存在;(3)二維材料,,通常以薄膜、量子阱等形式逡逑存在;(4)三維材料,通常以塊體相形式存在。而量子點(diǎn)則屬于零維納米材料。逡逑全無機(jī)鈣鈦礦量子點(diǎn)是指將ABX3結(jié)構(gòu)通式中A、B、X原子分別用Cs、Pb或Sn、逡逑和鹵素原子(Cl,邋Br,I或者兩者的混合物)替代。因量子限域效應(yīng),CH3NH3PbX3和CsPbX3逡逑量子點(diǎn)均顯示出非常高的量子產(chǎn)率(70%-90%),尤其是對CsPbBr3量子點(diǎn)而言,其量子逡逑產(chǎn)率甚至可以達(dá)到90%[4G]。鈣鈦礦量子點(diǎn)的合成方法比較簡單
【學(xué)位授予單位】:華東理工大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類號】:TN312.8;O471.1
本文編號:2684970
【圖文】:
代顯示技術(shù)發(fā)展的趨勢。從1993年至今,關(guān)于量子點(diǎn)材料的研宄已經(jīng)由最開始的逡逑CdSe/ZnS鎘系量子點(diǎn)逐漸向發(fā)展空間更大的鈣鈦礦量子點(diǎn)轉(zhuǎn)移。而目前,在顯示領(lǐng)域逡逑常見的幾種量子點(diǎn)中(圖1.1),鈣鈦礦量子點(diǎn)由于具有較高的量子產(chǎn)率、半峰寬窄、載流逡逑子傳輸速率快、帶隙可調(diào)、色域廣、成本低等特點(diǎn)[3_8],因此在光電顯示領(lǐng)域,有著巨逡逑大的應(yīng)用前景,有望成為新一代顯示技術(shù)的核心材料。逡逑1卜W族邐U1 ̄V族邐ABX,型邐ABX,斟逡逑CdSe/ZnS邐InP/ZnS邐CsPbX,邐CH3NH3PbX3逡逑BRSII邋i邐_邋二■HBB逡逑\w邋y邋R斟澹椋輳浚蟈錡逡逑*邋’邐Wavelength邋nm邐Wavelength邋mn邐Wavclcngtli邋nni逡逑t_邐L,邐_I逡逑1993邐2002邐2015逡逑t‘峰寬:30?50邋nm邐、卜?峰寬:40?60邋nm邐丨辨寬: ̄20-40邋nm逡逑鯪子效率:60%?90°/。邋|欨子效率:50°/。?70%邐|邋M子效率:60%?90%逡逑圖l.i在顯示器件中具有重要應(yīng)用前景的幾類量子點(diǎn)i9i逡逑Figure邋1.1邋Several邋potential邋quantum邋dots邋for邋display邋applications191逡逑鈣鈦礦量子點(diǎn)發(fā)光二極管(PeLEDs)是一種具有新型結(jié)構(gòu)的薄膜發(fā)光顯示器件(圖逡逑1.2),與傳統(tǒng)的鎘系核殼量子點(diǎn)相比較,全無機(jī)鈣鈦礦材料的發(fā)射峰半峰寬較窄(20邋nm-逡逑40mn)
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【學(xué)位授予單位】:華東理工大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類號】:TN312.8;O471.1
【相似文獻(xiàn)】
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1 張舒?zhèn)H;CsPbX3鈣鈦礦LED制備及器件穩(wěn)定性研究[D];華東理工大學(xué);2019年
本文編號:2684970
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