光刻機(jī)運(yùn)動(dòng)臺(tái)干涉信號(hào)相位細(xì)分的研究
【圖文】:
第二章 位移測(cè)量及其細(xì)分基本理論第二章 位移測(cè)量及其細(xì)分基本理論機(jī)超精密運(yùn)動(dòng)臺(tái)是光刻機(jī)的核心單元之一,光刻機(jī)的發(fā)展通過(guò)對(duì)精技術(shù)的研究和進(jìn)步,運(yùn)動(dòng)臺(tái)的位移測(cè)量精度直接影響運(yùn)動(dòng)臺(tái)的定影響芯片的生產(chǎn)率,而本文研究 28nm 浸沒式光刻機(jī)的測(cè)量系量程范圍內(nèi),精度達(dá)到 5.7nm,,運(yùn)動(dòng)臺(tái)測(cè)量系統(tǒng)的裝置示意圖如圖
圖 2-3 拍頻信號(hào)圖[25]動(dòng)頻率分別為 和 振幅都為 ,時(shí)間為 的波的振 ě 振動(dòng)公式為: ě )和(2-2)可得到合起來(lái)的振動(dòng)公式為: ě ě 2-3)使用三角公式變換后,公式可以變換成: [ ě ( ) ] ě( ) ) ( ),干涉后的信號(hào)的頻率為: 激光干涉儀還是衍射光柵干涉儀都是利用兩光波干,這兩路光一條為參考光,另一條為測(cè)量光,測(cè)量光
【學(xué)位授予單位】:桂林電子科技大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類號(hào)】:TN405
【參考文獻(xiàn)】
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本文編號(hào):2669771
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