三維集成電路(3D IC)中硅通孔(TSV)鏈路的多場分析
【圖文】:
美國貝爾實(shí)驗(yàn)室(Bell Labs)研制了第一個點(diǎn)接觸型的鍺晶體管,如圖1.1 所示。其中,約翰 巴。↗ohn Bardeen)和和沃爾特 布拉頓(Walter Brattain)發(fā)明了點(diǎn)接觸型晶體管[3,4],威廉 肖克利(Willian Shockley)則是在 1950 年研制了PN 結(jié)型二極管[5]。此后,,晶體管代替了體積大、成本高、易碎且功耗大的真空管,電子技術(shù)由真空管時代轉(zhuǎn)向晶體管時代,人類社會迎來了一次偉大的變革。圖 1.1 世界上第一只晶體管(美國貝爾實(shí)驗(yàn)室,1947 年)
西安電子科技大學(xué)博士學(xué)位論文,半導(dǎo)體制造技術(shù)的進(jìn)步使得集成電路(Integ美國德州儀器(TI)公司的杰克 基爾比(Ja路[6]。該集成電路將一支晶體管、數(shù)個電阻器和的鍺片上制作而成。同年,美國仙童(Farichild)ert Norton Noyce)研制了更為實(shí)用的集成電路。體的絕緣層,通過鋁條連線使元件和導(dǎo)線連接。電路。
【學(xué)位授予單位】:西安電子科技大學(xué)
【學(xué)位級別】:博士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號】:TN405.97
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