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三維集成電路(3D IC)中硅通孔(TSV)鏈路的多場分析

發(fā)布時間:2020-05-16 14:25
【摘要】:隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,集成電路的特征尺寸不斷減小,摩爾定律受到了多方面的挑戰(zhàn)。為了延續(xù)摩爾定律,人們開始把目光轉(zhuǎn)向TSV基3D IC。TSV基3D IC通過金屬填充硅通孔實(shí)現(xiàn)更短的互連線使得互連線的延遲和功耗更小,通過垂直堆疊不同層電路實(shí)現(xiàn)更高的集成密度使得電學(xué)性能更優(yōu)。然而,在散熱和熱應(yīng)力以及電性能分析方面還有許多問題阻礙了TSV基3D IC的發(fā)展。本文主要研究TSV基3D IC中不同結(jié)構(gòu)TSV與RDL層中不同結(jié)構(gòu)金屬傳輸線等組成的鏈路的性能,從電場,熱場和應(yīng)力場等角度分別研究了其各自的性能。主要工作內(nèi)容包括:1、提出了四種不同結(jié)構(gòu)TSV(圓柱型,圓環(huán)型,同軸型和雙環(huán)型)的RLCG模型,建立了高頻阻抗模型。電阻與電感根據(jù)傳統(tǒng)傳輸線模型求得,電容則考慮了MOS效應(yīng)根據(jù)同軸電容公式求得,同軸TSV中絕緣層的厚度影響了電容從而增加了損耗;中心介質(zhì)孔半徑影響低頻的電阻和高頻電感,但是對高頻損耗影響并不大;雙環(huán)型TSV同時具有金屬屏蔽層和中心介質(zhì)孔結(jié)構(gòu),同時具有兩者的電學(xué)特性。2、分析了RDL層微帶線結(jié)構(gòu)、共面波導(dǎo)結(jié)構(gòu)、共面帶狀線結(jié)構(gòu)和帶狀線結(jié)構(gòu)傳輸線的電學(xué)特性。其中,微帶線結(jié)構(gòu)傳輸線對TSV數(shù)量要求較低,鏈路工作頻帶比較窄;共面波導(dǎo)結(jié)構(gòu)傳輸線設(shè)計(jì)靈活,色散低,接地可以有效防止來自同平面?zhèn)鬏斁的干擾,要求襯底厚度比較厚;共面帶狀線結(jié)構(gòu)傳輸線中,縫隙越小線寬越大時損耗越小,對工藝精度要求較高;帶狀線結(jié)構(gòu)傳輸線鏈路損耗較大,工作頻帶較窄,適合介質(zhì)層附近表面有接地時使用。分析了包括傳輸線寬度躍變,TSV附近半徑躍變和直角彎等結(jié)構(gòu)在內(nèi)的TSV基3D IC中不連續(xù)結(jié)構(gòu)的電學(xué)特性。3、分析了TSV矩陣的電學(xué)特性,包括TSV排列時的電容,電感和損耗問題。由于不同排列時信號TSV的電場分布不同,總電容并不是根據(jù)接地TSV數(shù)量按照傳統(tǒng)電容公式疊加而來。通過HFSS軟件的電場分布驗(yàn)證了電場分布不均勻的特性,通過ANSYS Q3D Extractor驗(yàn)證了電容與接地TSV數(shù)量的非線性關(guān)系和電感與接地TSV數(shù)量的近似線性關(guān)系(誤差小于1%)。4、分析了TSV基3D IC中多場耦合,熱載荷產(chǎn)生的熱應(yīng)力比較明顯。焦耳熱主要與鏈路電阻和輸入信號有關(guān);高頻失配損耗與鏈路阻抗失配情況有關(guān),可以根據(jù)RLCG模型和阻抗模型分析;介質(zhì)損耗與輸入信號和材料的介質(zhì)損耗正切值有關(guān)。電生成的熱和有源區(qū)傳出的熱量導(dǎo)致鏈路溫度分布不均衡,在邊角處容易導(dǎo)致局部溫度過高和應(yīng)力集中。5、分析了絕緣層和信號傳輸線對電熱力多場的影響。共面帶狀線在多場分析時有獨(dú)特的優(yōu)勢,電學(xué)性能允許靈活的物理尺寸設(shè)計(jì)。分析了微流道降溫技術(shù)對電場的影響,微流道尺寸設(shè)計(jì)合理時可以補(bǔ)償一部分電容,減小損耗。
【圖文】:

貝爾實(shí)驗(yàn)室,晶體管,美國,第一


美國貝爾實(shí)驗(yàn)室(Bell Labs)研制了第一個點(diǎn)接觸型的鍺晶體管,如圖1.1 所示。其中,約翰 巴。↗ohn Bardeen)和和沃爾特 布拉頓(Walter Brattain)發(fā)明了點(diǎn)接觸型晶體管[3,4],威廉 肖克利(Willian Shockley)則是在 1950 年研制了PN 結(jié)型二極管[5]。此后,,晶體管代替了體積大、成本高、易碎且功耗大的真空管,電子技術(shù)由真空管時代轉(zhuǎn)向晶體管時代,人類社會迎來了一次偉大的變革。圖 1.1 世界上第一只晶體管(美國貝爾實(shí)驗(yàn)室,1947 年)

電路圖,塊集,電路,第一


西安電子科技大學(xué)博士學(xué)位論文,半導(dǎo)體制造技術(shù)的進(jìn)步使得集成電路(Integ美國德州儀器(TI)公司的杰克 基爾比(Ja路[6]。該集成電路將一支晶體管、數(shù)個電阻器和的鍺片上制作而成。同年,美國仙童(Farichild)ert Norton Noyce)研制了更為實(shí)用的集成電路。體的絕緣層,通過鋁條連線使元件和導(dǎo)線連接。電路。
【學(xué)位授予單位】:西安電子科技大學(xué)
【學(xué)位級別】:博士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號】:TN405.97

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本文編號:2666869

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