二維半導體材料及其場效應結(jié)構(gòu)光電器件研究
【圖文】:
第 1 章 引言9圖1.1是一些二維材料光電探測器的響應率和響應時間圖[97]。從圖中我們可以看到 GaTe 具有著非常高的響應率,響應時間在十幾毫秒量級。而石墨烯、黑磷也具有著較高的響應率, 特別是響應時間可以達到微秒以下,,可以和硅、InGaAs 等傳統(tǒng)材料比擬。不僅如此黑磷具有著非常窄的帶隙,可以實現(xiàn)中紅外光探測,一旦器件性能得到優(yōu)化提高,將具有極大的市場前景。如果單從響應率來看,有一半以上的二維材料響應率都與硅相近或者超出硅很多,如 MoS2, WSe2, InSe, In2Se3, GaTe, TiS3等材料的響應率都超出硅材料 3-4 個量級。這么高的響應率表明二維材料非常有希望應用于光電探測器中
試結(jié)果如圖 2.2 所示,可以發(fā)現(xiàn) PL光譜強度變化明區(qū)域 1,其 PL 強度要遠大于其他部分材料,其他圖所示。由于單層 WS2材料是直接帶隙,多層 WS明顯減弱,因此我們可以確定樣品區(qū)域 1為單層 W eV, 對應單層 WS2的直接帶隙寬度?梢钥闯 PL譜隨著材料厚度增大,WS2材料帶隙變窄。從光學顯樣品顏色由最接近于襯底顏色的紫色漸漸變?yōu)樗{色械剝離法獲得的少層 WS2材料光學顯微鏡照片,比例尺代cal image of few layer WS2by mechanical exfoliation, the sc10 m.
【學位授予單位】:中國科學院大學(中國科學院上海技術(shù)物理研究所)
【學位級別】:博士
【學位授予年份】:2018
【分類號】:TN304;TN36
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本文編號:2660897
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