二維半導(dǎo)體材料及其場(chǎng)效應(yīng)結(jié)構(gòu)光電器件研究
【圖文】:
第 1 章 引言9圖1.1是一些二維材料光電探測(cè)器的響應(yīng)率和響應(yīng)時(shí)間圖[97]。從圖中我們可以看到 GaTe 具有著非常高的響應(yīng)率,響應(yīng)時(shí)間在十幾毫秒量級(jí)。而石墨烯、黑磷也具有著較高的響應(yīng)率, 特別是響應(yīng)時(shí)間可以達(dá)到微秒以下,,可以和硅、InGaAs 等傳統(tǒng)材料比擬。不僅如此黑磷具有著非常窄的帶隙,可以實(shí)現(xiàn)中紅外光探測(cè),一旦器件性能得到優(yōu)化提高,將具有極大的市場(chǎng)前景。如果單從響應(yīng)率來(lái)看,有一半以上的二維材料響應(yīng)率都與硅相近或者超出硅很多,如 MoS2, WSe2, InSe, In2Se3, GaTe, TiS3等材料的響應(yīng)率都超出硅材料 3-4 個(gè)量級(jí)。這么高的響應(yīng)率表明二維材料非常有希望應(yīng)用于光電探測(cè)器中
試結(jié)果如圖 2.2 所示,可以發(fā)現(xiàn) PL光譜強(qiáng)度變化明區(qū)域 1,其 PL 強(qiáng)度要遠(yuǎn)大于其他部分材料,其他圖所示。由于單層 WS2材料是直接帶隙,多層 WS明顯減弱,因此我們可以確定樣品區(qū)域 1為單層 W eV, 對(duì)應(yīng)單層 WS2的直接帶隙寬度?梢钥闯 PL譜隨著材料厚度增大,WS2材料帶隙變窄。從光學(xué)顯樣品顏色由最接近于襯底顏色的紫色漸漸變?yōu)樗{(lán)色械剝離法獲得的少層 WS2材料光學(xué)顯微鏡照片,比例尺代cal image of few layer WS2by mechanical exfoliation, the sc10 m.
【學(xué)位授予單位】:中國(guó)科學(xué)院大學(xué)(中國(guó)科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所)
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號(hào)】:TN304;TN36
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