【摘要】：有機(jī)胺堿可與銅離子反應(yīng)且產(chǎn)物在堿性條件下溶于水,這為硅通孔(TSV)銅膜的堿性化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)提供了有利條件。研究了大分子有機(jī)胺堿對(duì)銅膜化學(xué)機(jī)械拋光的影響。首先測(cè)試了不同體積分?jǐn)?shù)有機(jī)胺堿對(duì)堿性拋光液中磨料粒徑和Zeta電位的影響,然后在直徑3英寸(1英寸=2.54 cm)銅片上模擬了不同體積分?jǐn)?shù)有機(jī)胺堿對(duì)銅去除速率的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:有機(jī)胺堿對(duì)拋光液中磨料粒徑和Zeta電位沒(méi)有影響;隨著有機(jī)胺堿體積分?jǐn)?shù)的增加,銅的去除速率先快速增加,達(dá)到一峰值后趨于穩(wěn)定,最后略有下降;當(dāng)有機(jī)胺堿的體積分?jǐn)?shù)為5%時(shí),TSV圖形片銅膜去除速率達(dá)到最高值2.1μm/min,剩余銅膜總厚度差減小到1.321 76 nm,實(shí)現(xiàn)了納米級(jí)的化學(xué)機(jī)械拋光。

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