宇航環(huán)境下SOI集成電路電磁敏感度研究
發(fā)布時間:2020-04-25 06:40
【摘要】:隨著集成電路特征尺寸的不斷減小以及工作頻率的不斷提升,集成電路的電磁兼容問題越來越受關注。宇航環(huán)境下的電子設備,長時間工作在狹小密閉的空間,同時還會受到空間輻射的影響,使得空間應用集成電路不僅要面對電磁兼容問題,還需要考慮輻射效應以及老化損傷等問題。電壓基準電路用于給整個電路提供基準電壓,是集成電路的心臟。在極端環(huán)境下,電壓基準電路的輸出電壓容易受到影響,從而改變整個電路的穩(wěn)定性。本文通過理論分析、仿真及實驗,研究了SOI(Silicon-on-insulator,絕緣襯底上的硅)器件的電磁兼容與老化的協同效應,SOI工藝電壓基準電路的電磁兼容與總劑量輻照的協同效應。首先,針對研究對象以及具體的實驗內容進行了詳細介紹。研究對象包括三款電壓基準電路。通過高低溫電學特性測試、電磁敏感度測試以及總劑量輻照試驗,驗證了總劑量輻照對電路的電學特性以及電磁敏感度產生的影響。然后,對SOI器件在電磁干擾作用下的失效機理以及老化特性進行了研究。通過理論計算,分析了器件漏電流在電磁干擾作用下產生直流偏移的機理。結合器件老化損傷機理,分析了老化對器件電學特性以及電磁敏感度的作用機理,并通過加速老化實驗以及電磁敏感度測試進行了驗證。結論是,器件漏電流在電磁干擾作用下產生直流偏移的原因是器件具有非線性,老化效應降低了器件的非線性,從而降低了器件的敏感度。接著,對電路在電磁干擾作用下的失效機理展開了研究。電磁敏感度的測試結果顯示,本文中電壓基準電路在干擾作用下的失效方式為輸出基準電壓產生了負向直流偏移。通過分析從不同管腳注入干擾時電路的失效機理,得出電壓基準電路在電磁干擾作用下產生直流偏移的原因是電路具有非線性,并通過仿真對失效方式進行驗證。結合兩個對比電路的結構以及敏感度測試結果進行了分析,得出的結論是電路的非線性越強,則敏感度越大。最后,研究了總劑量輻照對電路的電學特性以及電磁敏感度的作用機理。結合總劑量輻照對器件的損傷機理,通過理論計算分析了器件參數偏移對電路電學特性的影響,并通過仿真進行了驗證。分析了器件參數偏移對電路非線性的影響,并結合敏感度仿真結果,得出的結論是器件參數偏移通過改變電路的非線性來影響電路的電磁敏感度。對比了輻照前后以及退火后電壓基準電路中低頻的電路敏感度測試結果,定位了引起中低頻電磁敏感度增加的參數。對比了高頻電磁敏感度測試結果以及定向耦合器中記錄的功率值,得出的結論是總劑量輻照影響了電路中的寄生電容參數,從而改變了輻照后高頻電磁敏感度。
【圖文】:
部分提供理論基礎。逡逑2.1邐SOI器件特性逡逑如圖2_1所示,SOI器件與體硅器件的區(qū)別主要體現在SOI器件比體硅器件多逡逑了一個氧化層,從而實現了全介質隔離。通過離子注入的方法可以在硅材料中引入逡逑一個隱埋氧化層。除了這個氧化層外,SOI器件與體硅器件的工藝非常接近。此外,逡逑SOI器件沒有體硅器件中的“阱”,比體硅器件的工藝更簡單。隱埋氧化層的存在逡逑使SOI器件具有很多的優(yōu)點,但體區(qū)處于懸浮的狀態(tài)也使得SOI器件存在很多問逡逑題。逡逑4M邐4jm逡逑m邐m邐m0m邐f9邋f逡逑y邋f丨f邋^丨^邋m邐丨N逡逑77^邋r777U^W_r77771_|j^_fZ^_P77|邋\///^^i^////////\?^?y///逡逑襯底邐襯底逡逑a)體硅CMOS器件邐b)邋SOI邋CMOS器件逡逑a)邋Bulk邋silicon邋CMOS邋devices邐b)邋SOI邋CMOS邋devices逡逑圖2-1邋CMOS器件的示意圖逡逑Figure2-1邋Schematic邋diagram邋of邋CMOS邋devices逡逑2.1.1邐SOI器件分類逡逑SOI器件頂層硅膜的厚度直接影響著整個器件的特性。可以根據頂層硅膜的厚逡逑度和最大耗盡層的寬度來區(qū)分SOI器件f35l當硅膜厚度大于兩倍的最大耗盡寬度逡逑時,稱之為部分耗盡器件(PD:邋Partially邋Depleted),也就是PDSOI器件。中性體區(qū)逡逑5逡逑
在每克硅上沉積10_5焦耳的輻射能量,而Gy的定義是在每千克物質內沉積1焦耳逡逑的輻射能量。這兩個單位可以進行互換,互換的比例為lGy=100rad(Si)?倓┝枯楀义险盏脑韴D如圖2-2所示。逡逑_L_Empty邋&逡逑邐邐4.qpFil]ed逡逑廣、八”w邐si02邋邐Ev逡逑j邋Si邋/邋SiC逡逑圖2-2總劑量輻照原理圖[37]逡逑Figure2-2邋Principle邋of邋TID邋irradiation^7^逡逑以NMOS為例,總劑量輻照能夠產生電子空穴對,其中一部分電子空穴對會逡逑7逡逑
【學位授予單位】:北京交通大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2019
【分類號】:TN432
本文編號:2639927
【圖文】:
部分提供理論基礎。逡逑2.1邐SOI器件特性逡逑如圖2_1所示,SOI器件與體硅器件的區(qū)別主要體現在SOI器件比體硅器件多逡逑了一個氧化層,從而實現了全介質隔離。通過離子注入的方法可以在硅材料中引入逡逑一個隱埋氧化層。除了這個氧化層外,SOI器件與體硅器件的工藝非常接近。此外,逡逑SOI器件沒有體硅器件中的“阱”,比體硅器件的工藝更簡單。隱埋氧化層的存在逡逑使SOI器件具有很多的優(yōu)點,但體區(qū)處于懸浮的狀態(tài)也使得SOI器件存在很多問逡逑題。逡逑4M邐4jm逡逑m邐m邐m0m邐f9邋f逡逑y邋f丨f邋^丨^邋m邐丨N逡逑77^邋r777U^W_r77771_|j^_fZ^_P77|邋\///^^i^////////\?^?y///逡逑襯底邐襯底逡逑a)體硅CMOS器件邐b)邋SOI邋CMOS器件逡逑a)邋Bulk邋silicon邋CMOS邋devices邐b)邋SOI邋CMOS邋devices逡逑圖2-1邋CMOS器件的示意圖逡逑Figure2-1邋Schematic邋diagram邋of邋CMOS邋devices逡逑2.1.1邐SOI器件分類逡逑SOI器件頂層硅膜的厚度直接影響著整個器件的特性。可以根據頂層硅膜的厚逡逑度和最大耗盡層的寬度來區(qū)分SOI器件f35l當硅膜厚度大于兩倍的最大耗盡寬度逡逑時,稱之為部分耗盡器件(PD:邋Partially邋Depleted),也就是PDSOI器件。中性體區(qū)逡逑5逡逑
在每克硅上沉積10_5焦耳的輻射能量,而Gy的定義是在每千克物質內沉積1焦耳逡逑的輻射能量。這兩個單位可以進行互換,互換的比例為lGy=100rad(Si)?倓┝枯楀义险盏脑韴D如圖2-2所示。逡逑_L_Empty邋&逡逑邐邐4.qpFil]ed逡逑廣、八”w邐si02邋邐Ev逡逑j邋Si邋/邋SiC逡逑圖2-2總劑量輻照原理圖[37]逡逑Figure2-2邋Principle邋of邋TID邋irradiation^7^逡逑以NMOS為例,總劑量輻照能夠產生電子空穴對,其中一部分電子空穴對會逡逑7逡逑
【學位授予單位】:北京交通大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2019
【分類號】:TN432
【參考文獻】
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1 白會新;李洪革;謝樹果;蘇東林;;抗電磁干擾低電壓CMOS放大器設計[J];電子學報;2015年09期
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1 張景超;抗電磁干擾電流鏡電路設計[D];河北大學;2017年
2 陳毅華;場效應晶體管單粒子效應的機制與加固方法研究[D];湘潭大學;2016年
3 孟德;集成電路電磁敏感度(EMS)評測系統設計及其應用研究[D];蘇州大學;2014年
4 李瑩;集成電路互連線電磁敏感性的建模研究[D];華北電力大學;2013年
,本文編號:2639927
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