基于BOS的流動(dòng)顯示技術(shù)研究
【圖文】:
1.3背景紋影技術(shù)逡逑1.3.1背景紋影技術(shù)的發(fā)展逡逑如圖1.6所示,為背景紋影裝置原理圖。背景紋影技術(shù)和其它紋影技術(shù)一樣,逡逑都是基于光線的偏折來確定流場(chǎng)折射率(或者密度)的變化。光線通過待測(cè)流場(chǎng)逡逑后會(huì)偏離原來的路徑,入射到CCD相機(jī)成像芯片上的位置會(huì)發(fā)生改變,這就會(huì)逡逑造成有待測(cè)流場(chǎng)時(shí)CCD相機(jī)采集到的背景圖像和沒有流場(chǎng)時(shí)的不同(如圖1.7逡逑中a和b所示),通過圖像處理可以求得圖像點(diǎn)位移,繪制出位移矢量圖(如圖逡逑1.7中c所示),然后就可以求出待測(cè)流場(chǎng)的折射率或者密度。逡逑Background邋plane邐Increasing邐i邋?nQ邋f逡逑density邐^邐image逡逑^邐plane逡逑A邐A逡逑JBt邐邐邐y邐—?Displacement邋Ax逡逑/i邋 ̄ ̄邐p邐*邋I逡逑圖1.6背景紋影裝置原理圖P3]逡逑HHD逡逑(a)沒有流場(chǎng)時(shí)拍攝的背景圖案(b)有流場(chǎng)時(shí)拍攝的背景圖案(c)位移矢量圖逡逑圖1.7邋Raffel等實(shí)驗(yàn)中獲得的背景圖像以及位移矢量圖逡逑2000年4月,Dalziel等人[34]提出了幾個(gè)新型紋影和莫爾技術(shù),他們將其命逡逑名為“合成紋影”(Synthetic邋Schlieren)技術(shù)。這些技術(shù)的共同點(diǎn)是傳統(tǒng)光學(xué)裝置逡逑中的一部分被數(shù)字圖象處理所取代。其中的點(diǎn)追蹤折光法(Dot邋Tracking逡逑Refractometry)幾乎等同于背景紋影技術(shù),他們利用該技術(shù)對(duì)振蕩圓柱產(chǎn)生的內(nèi)逡逑波場(chǎng)進(jìn)行了研宄,為背景紋影技術(shù)的建立奠定了基礎(chǔ)。如圖1.8所示,為Dalziel逡逑等人利用點(diǎn)追蹤折光法得到的位移矢量圖。同年5月
紋影技術(shù)的理論,并利用該技術(shù)對(duì)懸停飛行中直升機(jī)的葉尖渦旋進(jìn)行了流動(dòng)顯示,逡逑驗(yàn)證了其可行性。Elsinga等人[36]、Popova[37]和Hargather等人[38]研宄了背景紋逡逑影技術(shù)的精度,并提出了一些改善精度的方法。如圖1.9所示,為Elsinga等人逡逑在超音速風(fēng)洞中研究普朗特-邁爾理論時(shí)利用背景紋影技術(shù)得到的位移矢量圖及逡逑密度梯度分布圖。Yevtikhiyeva等人研宄了各種參數(shù)對(duì)背景紋影技術(shù)測(cè)量靈敏逡逑度和分辨率的影響,并給出了幾個(gè)建立背景紋影裝置的指導(dǎo)公式。逡逑R誛 逡逑r::品P始:廠逡逑ias—?w:邋M逡逑圖1.8邋Dalziel等人得到的位移矢量圖[34]逡逑■1|20邐mi邋i.t逡逑w/PlvpH邐|1S邐P/P,?邐國(guó)105逡逑畫畫逡逑■邋■‘邐:邐:邐:邐:邐:邐_。7逡逑0邋0邐?邐?邐?邐1邐1—邐cc逡逑0邐10邐20邐30邐40邐50邋H2邐0邐10邐20邐30邐40邐50邐M065逡逑X(mm)邐■0邐X0nm>邐H0.6逡逑圖1.9邋Elsinga等人得到的位移矢量圖及密度梯度分布圖M逡逑背景紋影技術(shù)能提供直觀、形象的紋影圖像,進(jìn)行流動(dòng)顯示。同時(shí),背景紋逡逑影技術(shù)也是基于圖像處理技術(shù)的,減少了測(cè)量系統(tǒng)的光學(xué)裝置,,可以進(jìn)行定量測(cè)逡逑量。這些優(yōu)點(diǎn)促使其在越來越多的場(chǎng)景中應(yīng)用,尤其是在惡劣的工業(yè)環(huán)境和復(fù)雜逡逑的試驗(yàn)環(huán)境中。2000年
【學(xué)位授予單位】:南京理工大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號(hào)】:TN27
【參考文獻(xiàn)】
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本文編號(hào):2604937
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