全自動大功率LED智能微涂覆系統(tǒng)研究
【圖文】:
圖 3-1 涂覆系統(tǒng)下位機機構(gòu)示意圖3.2.1 下位機硬件系統(tǒng)設計根據(jù)上述闡述的涂覆工藝流程,將下位機硬件平臺分為以下四個部分:熒光粉膠上料模塊、傳送模塊、噴頭運動模塊、涂覆脫模平臺。(1)熒光粉膠上料模塊包括料筒、攪拌電機及攪拌扇葉、流量傳感器、氣壓調(diào)節(jié)閥、進料氣壓管道與流體傳輸管道。流量傳感器實時檢測傳輸管道內(nèi)熒光粉膠流量,并反饋至上位機得到誤差參數(shù);氣壓調(diào)節(jié)閥根據(jù)電流控制量控制實際進料氣壓,與流量傳感器、控制器結(jié)合構(gòu)成流量閉環(huán)控制系統(tǒng);攪拌電機和扇葉用于攪拌熒光粉膠,使其混合均勻,減少熒光粉沉淀。(2)噴頭運動模塊包括噴頭、XYZ 運動軸及各軸限位傳感器。XYZ 運動軸確保噴頭能夠在不同型號晶片的條件下實現(xiàn)不同路徑的噴涂任務,比如工字型、圓形路徑,限
華南理工大學工程碩士學位論文4)涂覆脫模平臺包括篩板、R 軸、運動電機。篩板遮擋住晶片上芯片與芯片,運動電機將晶片上頂至 R 軸最大值,使晶片與篩板貼合,避免熒光粉膠流動的空隙處。當涂覆作業(yè)完成后,,運動電機驅(qū)動 R 軸下移使晶片與篩板分離,實下位機硬件結(jié)構(gòu)如圖 3-2 所示。
【學位授予單位】:華南理工大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2018
【分類號】:TN312.8
【參考文獻】
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本文編號:2591588
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