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光子晶體光纖端面研磨損傷的分析

發(fā)布時間:2020-02-04 21:57
【摘要】:對光子晶體光纖的端面研磨過程進行研究,討論了光子晶體光纖端面研磨損傷的特點。針對光子晶體光纖的結(jié)構(gòu)特點,應(yīng)用有限元法建立了數(shù)值仿真模型。通過單一磨粒切削孔壁的仿真實驗,分析了不同切削深度下裂紋損傷的產(chǎn)生情況以及不同磨粒直徑對光纖孔壁結(jié)構(gòu)造成的損傷。最后通過實際研磨實驗驗證了分析結(jié)果。結(jié)果表明:有限元法能夠很好地模擬光子晶體光纖的端面研磨過程;研磨過程中,相對于非孔洞區(qū)域,孔壁邊緣更容易出現(xiàn)損傷,呈現(xiàn)出沿圓周分布的崩塌區(qū)域;邊緣崩塌區(qū)域尺寸隨磨粒直徑的增加而增加。實驗用光子晶體光纖孔壁邊緣無崩塌的最大切削深度低于普通光纖脆塑轉(zhuǎn)變的臨界切削深度,使用0.02μm的砂紙進行拋光可以有效地避免對光子晶體光纖孔壁造成損傷。

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