【摘要】：研究了直流電壓對無顆粒納米銀導(dǎo)電墨水在電流體動力(EHD)近場微噴印中噴射行為的影響。結(jié)果表明供墨壓力和電極間距一定時,隨著直流電壓增大,噴嘴尖端彎液面拉長,輪廓由曲面先后演變?yōu)槊}動泰勒錐和穩(wěn)定泰勒錐狀。直流電壓過大導(dǎo)致泰勒錐失穩(wěn)傾斜。在不同彎液面形狀下,墨滴噴射方式依次為:脈動微滴落、脈動錐射流、穩(wěn)定錐射流、多股錐射流。在1 500~3 500 V內(nèi)錐射流較穩(wěn)定,且該范圍內(nèi)隨著直流電壓升高,泰勒錐高度減小,錐尖角度增大。基板移動速度一定時,隨著直流電壓增大,基板上沉積的線條連續(xù)性增強,線條寬度增加。供墨壓力增大使上述噴射模式的誘導(dǎo)直流電壓降低,但射流更易失穩(wěn),導(dǎo)致噴印質(zhì)量下降。
【作者單位】： 嘉興學(xué)院機電工程學(xué)院;浙江工業(yè)大學(xué)特種裝備制造與先進加工技術(shù)教育部/浙江省重點實驗室;
【基金】：浙江省自然科學(xué)基金重點項目(LZ14E050002);浙江省自然科學(xué)基金資助項目(EM2015042001) 浙江省公益性技術(shù)應(yīng)用研究計劃項目(2015C31069)
【分類號】：TN05

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本文編號：2552274