本文選題：焦平面探測(cè)器 + 相連缺陷元��； 參考：《紅外與激光工程》2017年04期

【摘要】：采用高倍光學(xué)顯微鏡和焦平面探測(cè)器測(cè)試系統(tǒng)對(duì)焦平面探測(cè)器相連缺陷元進(jìn)行了測(cè)試分析,研究了焦平面探測(cè)器相連缺陷元的成因。研究結(jié)果表明:借助高倍光學(xué)顯微鏡很難識(shí)別相連缺陷元;采用焦平面探測(cè)器響應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)進(jìn)行測(cè)試時(shí),相連缺陷元的響應(yīng)電壓與正常元基本相同,相連缺陷元無(wú)法被識(shí)別;采用焦平面探測(cè)器串音測(cè)試系統(tǒng)進(jìn)行測(cè)試時(shí),相連缺陷元之間串音為100%,明顯不同于正常元,此時(shí)兩元相連缺陷元響應(yīng)電壓是正常元響應(yīng)電壓的二分之一,相連缺陷元可以被有效識(shí)別。光刻腐蝕引入的臺(tái)面或電極相連,以及光刻剝離引入的銦柱相連導(dǎo)致了缺陷元的產(chǎn)生;通過(guò)光刻腐蝕、剝離工藝優(yōu)化,可以有效減少焦平面探測(cè)器相連缺陷元。
[Abstract]:The defect elements connected to focal plane detectors are tested and analyzed by using high-power optical microscope and focal plane detector testing system, and the causes of the connected defect elements of focal plane detectors are studied.The results show that it is difficult to identify the connected defect elements with the help of high-power optical microscope, and the response voltage of the connected defect elements is basically the same as that of the normal elements when the focal plane detector response test system is used.When using the focal plane detector crosstalk test system, the crosstalk between the connected defect elements is 100, which is obviously different from the normal element. At this time, the response voltage of the two-element connected defect element is 1/2 of the normal element response voltage.Linked defect elements can be effectively identified.The table or electrode connected by lithography and the indium column connected by lithography lead to the generation of defect elements. Through lithography etching and optimization of stripping process the defect elements connected with focal plane detectors can be effectively reduced.
【作者單位】： 西北工業(yè)大學(xué)電子信息學(xué)院;中國(guó)空空導(dǎo)彈研究院;紅外探測(cè)器技術(shù)航空科技重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【基金】：航空創(chuàng)新基金(2011D01406)
【分類號(hào)】：TN215

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本文編號(hào)：1746231