本文選題：低能離子束刻蝕　切入點：粗糙度　出處：《西安工業(yè)大學》2015年碩士論文

【摘要】：納米材料有著諸多的優(yōu)良特性,隨著科技的發(fā)展,各國對于納米材料的研究更加深入,納米材料的發(fā)展也更加迅猛。所以本文的核心技術(shù)就是可以有效的形成物體表面納米結(jié)構(gòu)的低能離子束刻蝕技術(shù)。本文的刻蝕對象為藍寶石晶體,對藍寶石晶體的研究是因為其光學、化學、機械等等各個方面的廣泛應用,現(xiàn)如今更是軍用光電設(shè)備中不可或缺的材料。本文采用微波回旋共振離子源,通過改變刻蝕的入射能量、入射角度、刻蝕時間以及離子束束流這些因素刻蝕藍寶石樣片。針對刻蝕后的藍寶石樣片,用Taylor Sure CCI2000非接觸式表面測量儀測量表面粗糙度、分光光度計測量透射率以及用德國Bruker公司生產(chǎn)的Multimode8原子力顯微鏡測量表面納米結(jié)構(gòu)。對測量后的三方面數(shù)據(jù)進行比對、分析,得出結(jié)論如下：1)當刻蝕時間、離子束流以及刻蝕角度固定的情況下,刻蝕后的藍寶石表面透射率會隨著入射能量的增加而變大,但入射能量的改變對樣品表面納米結(jié)構(gòu)影響很小。2)當入射能量、離子束流以及刻蝕角度固定的情況下,改變刻蝕時間60min為120min,刻蝕后的藍寶石粗糙度及表面透射率都有增加,樣品表面結(jié)構(gòu)更加有序。3)當刻蝕時間不變、刻蝕角度不變時,離子束流由35mA增加到45mA,刻蝕后的藍寶石表面粗糙度以及表面透過率都有所增加。4)當固定參數(shù)下刻蝕后的藍寶石的表面粗糙度大時,測得的表面納米結(jié)構(gòu)圖也更為清晰、有序,相反當表面粗糙度較小時,表面納米結(jié)構(gòu)相對平滑。
[Abstract]:In this paper , the surface roughness and the surface transmittance of sapphire have been increased by changing the etching time , ion beam flow and etching angle .

【學位授予單位】：西安工業(yè)大學
【學位級別】：碩士
【學位授予年份】：2015
【分類號】：TN305.7

【參考文獻】

相關(guān)期刊論文 前1條

1 趙紹唐;;SEM515掃描電子顯微鏡的原理與應用[J];航空兵器;1991年02期

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1 李瑞;低能離子束刻蝕中自組織納米結(jié)構(gòu)形成研究[D];西安工業(yè)大學;2012年

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本文編號：1721622