本文選題：磁控濺射　切入點(diǎn)：氧化鋅　出處：《中南民族大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版)》2017年01期

【摘要】：以氧化鎂(MgO)摻雜的氧化鋅(ZnO)陶瓷靶作為濺射靶材,采用射頻磁控濺射方法在玻璃襯底上制備了摻鎂ZnO(ZnO:Mg)薄膜樣品.通過(guò)X射線衍射儀和可見-紫外光分光光度計(jì)的測(cè)試表征,研究了濺射時(shí)間對(duì)ZnO:Mg薄膜晶體結(jié)構(gòu)和光學(xué)性質(zhì)的影響.結(jié)果表明:ZnO:Mg薄膜的結(jié)構(gòu)和性能與濺射時(shí)間密切相關(guān).隨著濺射時(shí)間的增加,ZnO:Mg薄膜(002)晶面的織構(gòu)系數(shù)減小、(110)晶面的織構(gòu)系數(shù)增大,對(duì)應(yīng)的可見光波段的平均透過(guò)率降低.濺射時(shí)間為15 min時(shí),ZnO:Mg薄膜樣品具有最佳的(002)擇優(yōu)取向生長(zhǎng)特性和最好的透光性能.同時(shí)ZnO:Mg薄膜樣品的禁帶寬度隨濺射時(shí)間增加而單調(diào)增大.與未摻雜ZnO薄膜相比,所有ZnO:Mg薄膜樣品的禁帶寬度均變寬.
[Abstract]:The magnesium-doped ZnO- ZnO: MgO thin films were prepared on glass substrates by radio frequency magnetron sputtering (RF magnetron sputtering), and the samples were characterized by X-ray diffractometer and visible-ultraviolet spectrophotometer. The effect of sputtering time on the crystal structure and optical properties of ZnO:Mg thin films was studied. The results show that the structure and properties of ZnO:Mg / mg thin films are closely related to the sputtering time. The texture coefficient of the crystal plane increases, The average transmittance of the corresponding visible light band decreases. The ZnO: mg thin film sample with sputtering time of 15 min has the best preferred orientation growth characteristic and the best transmittance. Meanwhile, the band gap of ZnO:Mg thin film sample is the same as the sputtering time. Compared with undoped ZnO thin films, The bandgap of all ZnO:Mg thin films is widened.
【作者單位】： 中南民族大學(xué)電子信息工程學(xué)院智能無(wú)線通信湖北省重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(11504436) 湖北省自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(2015CFB364) 中央高�；究蒲袠I(yè)務(wù)費(fèi)專項(xiàng)資金資助項(xiàng)目(CZW14019,CZW15045)
【分類號(hào)】：TN304.21

【參考文獻(xiàn)】

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【共引文獻(xiàn)】

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【二級(jí)參考文獻(xiàn)】

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本文編號(hào)：1671035