基于液晶空間光調(diào)制器的相位差波前探測技術(shù)定量研究
本文選題:相位差探測技術(shù) 切入點:波前探測 出處:《液晶與顯示》2017年03期 論文類型:期刊論文
【摘要】:為了定量研究相位差波前探測技術(shù)(phase diversity technique,PD)對波前探測和圖像重建的精度,本文分別進(jìn)行了數(shù)值模擬以及相關(guān)實驗。數(shù)值模擬中采用了均方根(root-mean-square,RMS)分別為0.1λ~0.5λ的五組隨機(jī)畸變波前,獲得其退化的焦面圖像和相應(yīng)的離焦圖像信息,利用PD技術(shù)對其進(jìn)行波前探測和圖像重建,波前探測的殘余誤差RMS值均達(dá)到了10~(-5)λ水平,重建圖像在分辨率和對比度上有明顯提升。搭建了基于液晶空間光調(diào)制器的實驗系統(tǒng),利用液晶空間光調(diào)制器來定量施加隨機(jī)的波前像差,可以有效解決湍流屏數(shù)據(jù)難以量化的問題。同樣將PD技術(shù)應(yīng)用于本實驗所采集到的退化焦面圖像和相應(yīng)離焦圖像,對于RMS值為0.306λ的隨機(jī)波前像差,探測波前的殘余誤差為0.091λ,圖像重建結(jié)果與模擬結(jié)果高度一致,本文列舉并分析了可能造成實驗誤差的多種因素,同時為該技術(shù)應(yīng)用于液晶系統(tǒng)積累了技術(shù)基礎(chǔ)。
[Abstract]:To quantitatively study the phase difference wavefront detection (phase diversity technique, PD) of wavefront detection and image reconstruction accuracy, this paper gives the numerical simulation and related experiments. The numerical simulation using the RMS (root-mean-square, RMS) respectively into five groups randomly distorted wavefront 0.1 lambda lambda ~0.5, the degradation of coke face image and the corresponding defocus image information, wavefront detection and image reconstruction based on PD technology, RMS residual error of wavefront detection value reached 10~ (-5) is improved significantly in the level of image resolution and contrast. On the experimental system is built based on liquid crystal spatial light modulator, using liquid crystal a spatial light modulator to apply quantitative wavefront random, can effectively solve the turbulence screen data difficult to quantify the problem. The same PD technology will be used in this experiment collected degradationand focal plane image and The corresponding defocused image, the RMS value is 0.306. The random wavefront aberration, wavefront residual error is 0.091 lambda, image reconstruction results and simulation results are highly consistent, analyzed a variety of factors may lead to errors in the experiment of this paper lists and at the same time as the technology is applied to the liquid crystal system has accumulated technology base.
【作者單位】: 濟(jì)源職業(yè)技術(shù)學(xué)院;中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所;中國科學(xué)院研究生院;
【基金】:國家自然科學(xué)基金(No.61405194)~~
【分類號】:TN761
【參考文獻(xiàn)】
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【共引文獻(xiàn)】
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【二級參考文獻(xiàn)】
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【相似文獻(xiàn)】
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本文編號:1587220
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