本文關(guān)鍵詞： 鋁(Al)柵 堿性清洗液 硅溶膠 螯合劑 活性劑 非均勻腐蝕　出處：《微納電子技術(shù)》2017年03期 　論文類型：期刊論文

【摘要】：針對鋁柵化學機械拋光(CMP)后硅溶膠顆粒殘留等問題,研制了新型FA/O堿性清洗液并進行CMP后清洗實驗。清洗液主要成分是FA/OⅡ螯合劑和O-20非離子型活性劑,由金相顯微鏡和原子力顯微鏡檢測結(jié)果得出:FA/OⅡ螯合劑可以有效去除硅溶膠顆粒,當不加入FA/OⅡ螯合劑時,殘留顆粒較多;當螯合劑體積分數(shù)為0.05‰~0.2‰時,殘留顆粒數(shù)量明顯下降。通過電化學工作站可知:隨著O-20非離子型活性劑體積分數(shù)的提升(0~2‰),鋁柵自腐蝕電流逐漸降低,由5.195μA下降到1.024μA。通過改變清洗液中螯合劑和活性劑的體積配比做單因素實驗,得到最佳清洗效果和最弱腐蝕。實驗結(jié)果表明:當清洗液中FA/OⅡ體積分數(shù)為0.15‰,O-20活性劑體積分數(shù)為1.5‰時,pH10,表面粗糙度為2.4 nm,硅溶膠顆粒去除效果比較好且非均勻腐蝕比較弱。
[Abstract]:A new type of FA / O 鈪，

本文編號：1498498