本文關(guān)鍵詞：光刻照明系統(tǒng)中復眼透鏡的設計及公差分析　出處：《激光與紅外》2017年07期 　論文類型：期刊論文

  更多相關(guān)文章： 浸沒式光刻 高均勻性照明 分辨率 光學設計 公差分析

【摘要】：在超大規(guī)模集成電路中,為了實現(xiàn)NA=1.35,波長193 nm處分辨率達到45 nm的目標,需要對影響光刻照明均勻性的誤差源進行詳細分析最終確定公差范圍。復眼透鏡是使光束在系統(tǒng)掩膜面上形成矩形均勻照明區(qū)域的關(guān)鍵元件。采用CODE V軟件設計了復眼透鏡對引起照明不均勻性的因素進行分析,結(jié)合復眼透鏡組的設計方案和實際加工能力,給出X和Y向復眼曲率公差為±10%,后組曲率公差為±5%,前后組間隔公差為±50μm,位置精度偏心公差為±1μm,裝配精度公差為±3μm。制定公差合理、可行,滿足了浸沒式光刻照明系統(tǒng)高均勻性、高能量利用率的要求。
[Abstract]:In VLSI, the resolution at 193 nm is 45 nm in order to achieve NAA 1.35. It is necessary to analyze in detail the error sources that affect the uniformity of lithographic illumination and finally determine the tolerance range. Compound eye lens is the key element to make the beam form a rectangular uniform illumination area on the system mask surface. CODE is adopted. V software designed the compound eye lens to analyze the factors that caused the illumination inhomogeneity. Combined with the design and practical processing ability of compound lens group, the curvature tolerance of X and Y direction compound eye is 鹵10, the curvature tolerance of posterior group is 鹵5 and the tolerance of anterior and posterior group interval is 鹵50 渭 m. The eccentric tolerance of position accuracy is 鹵1 渭 m, and the tolerance of assembly accuracy is 鹵3 渭 m. The tolerance is reasonable and feasible, which meets the requirements of high uniformity and high energy utilization rate of immersion lithography lighting system.
【作者單位】： 長春理工大學;長春理工大學光電信息學院;
【基金】：國家自然科學基金項目(No.91338116;No.11474037)資肋
【分類號】：TH74;TN405
【正文快照】： 1引言隨著世界光刻技術(shù)邁入45 nm節(jié)點及以下,浸沒式光學投影曝光光刻技術(shù)已成為集成電路制造的主流技術(shù)[1]。良好的照明均勻性能夠獲得高分辨率,反之,如果照明均勻性較差,那么會造成各個視場分辨率存在差異,曝光線條的粗細不一致,嚴重影響光刻機的性能[2-3]。故設計了NA達到1.

【相似文獻】

相關(guān)期刊論文 前10條

1 張淑立;譚立國;;公差分析和優(yōu)化設計[J];汽車工程師;2009年05期

2 張杰;張衛(wèi)東;;連接器設計常用公差分析方法的介紹[J];機電元件;2010年02期

3 周志革,黃文振,張利;數(shù)論方法在統(tǒng)計公差分析中的應用[J];機械工程學報;2000年03期

4 周志革,黃文振,張利;統(tǒng)計公差分析與綜合的數(shù)論序貫優(yōu)化方法[J];上海交通大學學報;2000年03期

5 武一民,周志革,楊津,陳濤;公差分析與綜合的進展[J];機械設計;2002年02期

6 郭長虹,趙炳利,郝麗霞;基于蒙特卡羅模擬法的計算機輔助公差分析[J];現(xiàn)代制造工程;2004年08期

7 宋鐵牛,張陽;計算機輔助裝配公差分析的探討[J];現(xiàn)代防御技術(shù);2004年06期

8 徐東;鮑勁松;金燁;;復雜發(fā)動機關(guān)鍵機構(gòu)的公差分析和優(yōu)化[J];計算機集成制造系統(tǒng);2006年05期

9 顧凌韜;金隼;曹俊;孫廣建;;基于特征的公差分析及其非線性問題研究[J];機械設計與制造;2007年04期

10 Frank Mannewitz;陳巍;;復雜公差分析的簡單運算[J];工程設計學報;2008年04期

相關(guān)會議論文 前1條

1 劉雨沁;張孟偉;;變倍光學系統(tǒng)的公差分析[A];第十四屆全國光學測試學術(shù)討論會論文（摘要集）[C];2012年

相關(guān)博士學位論文 前1條

1 李海;基于DP-SDT偏差綜合理論的三維公差分析方法[D];華中科技大學;2016年

相關(guān)碩士學位論文 前10條

1 談進;耳內(nèi)窺鏡系統(tǒng)的設計[D];福建師范大學;2015年

2 王傳磊;基于新一代GPS的幾何特征數(shù)學建模及三維公差分析方法研究[D];大連理工大學;2015年

3 王冰清;基于本體的功能公差分析知識庫系統(tǒng)研究[D];桂林電子科技大學;2014年

4 鄢慧文;基于數(shù)論方法的統(tǒng)計公差分析[D];浙江大學;2016年

5 李其勝;基于凸包的公差分析模型研究[D];山東大學;2016年

6 易建業(yè);面向精度控制的車身焊裝偏差分析及工藝優(yōu)化[D];湖南大學;2015年

7 余亮;一面兩孔定位的裝配公差分析方法[D];杭州電子科技大學;2016年

8 黃賀福;基于齊次變換修正矩陣的剛?cè)峄旌夏Ｐ凸罘治鯷D];山東大學;2017年

9 付濤;基于矩陣變換的公差分析方法研究[D];山東大學;2011年

10 李煥慶;面向虛擬裝配的公差分析關(guān)鍵技術(shù)研究[D];南京理工大學;2006年

，

本文編號：1419605