本文關(guān)鍵詞：基于矩陣積分法優(yōu)化光刻部分相干成像模型　出處：《貴州師范學(xué)院學(xué)報》2016年09期 　論文類型：期刊論文

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【摘要】：基于矩陣積分法實現(xiàn)了Matlab對光刻部分相干二維成像的模擬,驗證了Matlab編寫的部分相干程序的可行性,加入了離焦對光刻分辨率的影響。通過建立部分相干光光刻仿真模型,并在二極照明方式下,對離焦對光刻成像的影響進(jìn)行了模擬計算。結(jié)果表明,矩陣積分法降低了程序運算所用時間,微小的離焦對光刻部分相干成像影響巨大,必須考慮離焦對光刻分辨率造成的影響。
[Abstract]:Matrix integral method to achieve the simulation of Matlab lithography based on partially coherent two-dimensional imaging, to verify the feasibility of Matlab prepared by the partially coherent program, joined the influence of defocus on lithography resolution. Through the establishment of a partially coherent optical lithography simulation model, and the dipole illumination, the effect of defocusing on lithography is simulated the calculation. The results show that the matrix integral method reduces the computation time, tiny defocusing on partial coherent imaging lithography has great influence, must consider the influence of defocus on the resolution caused.

【作者單位】： 貴州師范學(xué)院;貴州大學(xué);
【基金】：貴州省教育廳自然科學(xué)基金招標(biāo)項目(黔教合KY字【2012】051號) 貴州省科技廳自然科學(xué)基金項目(黔科合J字【2013】2253號;黔科合SY字【2014】3084號) 貴州師范學(xué)院校級學(xué)生科研項目(2014DXS114)
【分類號】：TN305.7
【正文快照】： 引言光刻模擬開始于1970年代早期,當(dāng)時,RickDill在IBM的Yorktown Heights Research Center用數(shù)學(xué)公式描述了光刻工藝的一些基本步驟[1]。Dill首先建立一個最簡單的模型。在一維情況下給定一個硅片上未曝光的光刻膠模型,然后研究曝光時隨著在光刻膠中曝光深度變化光強的分布。D

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本文編號：1383039