本文關(guān)鍵詞：高精度大口徑低溫紅外目標(biāo)源系統(tǒng)關(guān)鍵技術(shù)研究　出處：《哈爾濱工業(yè)大學(xué)》2015年碩士論文　論文類型：學(xué)位論文

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【摘要】：高精度大口徑低溫紅外目標(biāo)源是一套要求口徑更大、精度更高的紅外目標(biāo)源設(shè)備,用于模擬特定的空間環(huán)境,檢測和標(biāo)定紅外設(shè)備相關(guān)技術(shù)性能和指標(biāo)。這是目前我國在進(jìn)行空間遙感探測研究中急需解決的關(guān)鍵技術(shù)。本文根據(jù)有關(guān)傳熱學(xué)原理、ANSYS有限元分析、低溫制冷技術(shù)等對低溫紅外目標(biāo)源系統(tǒng)的溫度均勻性、控溫速率、控溫精度等性能進(jìn)行分析。主要對低溫紅外目標(biāo)源系統(tǒng)的制冷結(jié)構(gòu)、溫度傳遞過程、制冷機(jī)制冷過程的熱損失等進(jìn)行分析和較為系統(tǒng)的研究。本文首先對液氮制冷和機(jī)械制冷兩種不同的制冷方式下的制冷結(jié)構(gòu)設(shè)計和分析,從而選出最優(yōu)結(jié)構(gòu)。在不同的制冷方式下,分別設(shè)計四種結(jié)構(gòu),通過溫度場分布情況的分析結(jié)果表明,不同制冷方式下的最優(yōu)制冷結(jié)構(gòu),各項指標(biāo)均能達(dá)到要求。本文應(yīng)用ANSYS有限元分析軟件對黑體面源升溫過程溫度場分布情況進(jìn)行了模擬分析。對最優(yōu)制冷結(jié)構(gòu)在有冷源持續(xù)供應(yīng)的情況下加入加熱功率,升溫過程中持續(xù)記錄黑體面源溫度場分布情況及升溫速率,使黑體面源溫度在80~300K之間連續(xù)變化。分析結(jié)果表明,本文設(shè)計的熱傳導(dǎo)結(jié)構(gòu)均能滿足指標(biāo)要求。本文闡述了機(jī)械制冷過程中冷量的計算方法,并對制冷量以及熱損失進(jìn)行了計算,分析了制冷機(jī)在工作過程中導(dǎo)致熱損失的影響因素。通過相應(yīng)過程的分析,得到G-M制冷機(jī)作為紅外目標(biāo)源系統(tǒng)的冷源時,能夠達(dá)到各項指標(biāo)的要求。利用機(jī)械制冷為紅外目標(biāo)源系統(tǒng)提供冷源,對低溫紅外目標(biāo)源系統(tǒng)的研究,具有一定的創(chuàng)新性。本文根據(jù)系統(tǒng)技術(shù)指標(biāo)要求,通過對各部件的選擇,完成了機(jī)械制冷高精度大口徑低溫紅外目標(biāo)源系統(tǒng)的設(shè)計,工程上已付諸實施。采用制冷機(jī)作為冷源的紅外目標(biāo)源系統(tǒng)不僅結(jié)構(gòu)更加緊湊,而且黑體面源的溫度均勻性和穩(wěn)定性更好,工程應(yīng)用價值更高。
[Abstract]:This paper analyzes the temperature field distribution of low temperature infrared target source system by using ANSYS finite element analysis software , and analyzes the temperature field distribution of cryogenic infrared target source system .

【學(xué)位授予單位】：哈爾濱工業(yè)大學(xué)
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2015
【分類號】：TN216

【參考文獻(xiàn)】

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2 蘆靜華;劉剛;杜海輝;;大口徑標(biāo)準(zhǔn)黑體輻射源[J];計測技術(shù);2008年S1期

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本文編號：1378808