本文關鍵詞：基于濕法清洗設備自動供液系統(tǒng)的研究

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【摘要】：濕法清洗設備是半導體清洗行業(yè)中最普遍的設備,其電氣控制方式受環(huán)境因素影響有其特殊性和專業(yè)性,清洗設備中的電氣控制需要配合其清洗的特殊工藝而實現(xiàn)。同時清洗工藝過程具有強腐蝕性,也應該考慮電氣設備的安全耐腐蝕防護。
【作者單位】： 中國電子科技集團公司第二研究所;
【分類號】：TN305.97
【正文快照】： 1概述常見的濕法清洗設備中用到的化學試劑大多為:99%的濃硫酸、H3PO4、HF、KOH、HCl等強腐蝕性溶液。以往清洗設備中所需的化學溶液均采用人工手動添加的方式,人工手動添加對設備操作人員存在一定的安全隱患,另外受人為因素影響,每次溶液的配置精度均不相同。故目前很多RCA清

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