VDMOS器件的自熱效應(yīng)及高溫?zé)彷d流子效應(yīng)的研究
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【摘要】:半導(dǎo)體功率器件是自集成電路發(fā)展以來(lái)一直被關(guān)注的主要焦點(diǎn)之一。它是實(shí)現(xiàn)工控智能化、系統(tǒng)化的核心技術(shù)基礎(chǔ)。VDMOS器件是自20世紀(jì)末發(fā)展起來(lái)的主流功率器件中最具特色的一種。它具有高耐壓、高開(kāi)關(guān)速度、驅(qū)動(dòng)能力強(qiáng)、熱穩(wěn)定好等優(yōu)點(diǎn),被廣泛用于汽車電子、電機(jī)驅(qū)動(dòng)、開(kāi)關(guān)電源等各個(gè)領(lǐng)域。隨著VDMOS在市場(chǎng)占有率逐年升高,人們對(duì)該器件的性能提出了更高的要求。VDMOS功率的可靠性是時(shí)下討論的最熱門(mén)的話題之一。研究器件可靠性的目的是為了使其可通過(guò)改進(jìn)優(yōu)化而具有更高的穩(wěn)定性。本文綜述了近些年來(lái)功率器件的發(fā)展概況。在大功率器件為市場(chǎng)帶來(lái)巨大經(jīng)濟(jì)的效益的同時(shí),也造成了巨大的能源消耗和諸多可靠性隱患。在此背景下,本文對(duì)VDMOS器件高溫可靠性進(jìn)行了深入研究,主要內(nèi)容如下:首先從VDMOS基本結(jié)構(gòu)和工作原理出發(fā),對(duì)器件的性能參數(shù)進(jìn)行了剖析。該器件是采用自對(duì)準(zhǔn)雙擴(kuò)散工藝下形成的導(dǎo)電溝道,通過(guò)合理設(shè)計(jì)P阱摻雜濃度可有效控制溝道長(zhǎng)度。從而有利于提高器件開(kāi)關(guān)速度和工作頻率,同時(shí)降低了導(dǎo)通電阻而增強(qiáng)了驅(qū)動(dòng)能力。另外、DMOS比普通MOS多了一個(gè)外延層的存在,是使其具有了更高耐壓特性的關(guān)鍵。重點(diǎn)對(duì)閾值電壓、導(dǎo)通電阻和擊穿電壓等參數(shù)逐個(gè)進(jìn)行了討論研究。并通過(guò)仿真展示了輸出特性和傳輸特性曲線。接著本文對(duì)VDMOS管的自熱效應(yīng)做了深入探討。用二維器件仿真軟件Silvaco-Atlas模擬了VDMOS器件工作時(shí)產(chǎn)熱分布,觀察到高溫區(qū)集中分布在溝道末端及積累層區(qū)域。仿真了器件自加熱效應(yīng)情形下的輸出特性曲線,結(jié)果顯示曲線在達(dá)到飽和點(diǎn)后隨漏電壓增大有下降趨勢(shì),而且高柵壓下,這種下降趨勢(shì)更為明顯,通過(guò)結(jié)合理論分析自熱效應(yīng)對(duì)器件參數(shù)造成的影響,從而揭示了自熱效應(yīng)導(dǎo)致器件退化的本質(zhì)。本文最后討論了高溫環(huán)境下VDMOS熱載流子效應(yīng)損傷機(jī)制,通過(guò)建立襯底電流模型,分析了襯底電流受偏置電壓和溫度影響的變化過(guò)程。結(jié)果表明:(1)襯底電流在偏置電壓固定時(shí),襯底電流隨溫度升高呈先下降后升高的變化過(guò)程。(2)在溫度相同情況下,越高的偏置電壓會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)生更大襯底電流,反之亦然。結(jié)合理論確定了在溫度的應(yīng)力下器件內(nèi)電場(chǎng)分布、表面勢(shì)、電子電流密度等參數(shù)的退化是導(dǎo)致襯底電流上升的主要因素。最后通過(guò)仿真展示了閾值電壓、飽和漏電流以及轉(zhuǎn)移特性等電學(xué)特性的退化。
【學(xué)位授予單位】:安徽大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2016
【分類號(hào)】:TN386
【參考文獻(xiàn)】
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,本文編號(hào):1203721
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