高分辨率硅微通道板基體制備技術(shù)
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更多相關(guān)文章: 硅微通道 微通道板 光刻工藝 電化學(xué)腐蝕 Comsol軟件
【摘要】:微通道板是二維電子倍增器,具有高增益、低功耗、長(zhǎng)壽命等優(yōu)點(diǎn),廣泛應(yīng)用于微光夜視、光電倍增管、X射線探測(cè)等領(lǐng)域。本文研究了高分辨率硅微通道基體的制備技術(shù),探討了硅片的光刻工藝及其影響因素;介紹了硅的各向異性腐蝕機(jī)制,研究了硅誘導(dǎo)坑腐蝕技術(shù);根據(jù)歐姆接觸層制備的研究結(jié)果,對(duì)其工藝進(jìn)行了優(yōu)化;在不同條件下對(duì)硅微通道陣列的形貌進(jìn)行了對(duì)比分析,研究了電化學(xué)腐蝕中溫度、HF濃度對(duì)硅微通道形貌的影響,得出了最佳制備條件。高分辨率硅微通道電化學(xué)腐蝕加工機(jī)理及過程影響因素較多,工藝控制復(fù)雜,通過Comsol軟件對(duì)硅微通道建模模擬,建立仿真模型,確定仿真求解的邊界條件和主要參數(shù),在已有文獻(xiàn)的基礎(chǔ)上,通過對(duì)電化學(xué)腐蝕情況的假設(shè),給出了仿真求解結(jié)果。
【學(xué)位授予單位】:長(zhǎng)春理工大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2016
【分類號(hào)】:TN304.12
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,本文編號(hào):1139145
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