本文關(guān)鍵詞：用于強(qiáng)激光系統(tǒng)的光柵偏振器

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【摘要】：針對(duì)強(qiáng)激光系統(tǒng)中常用的1 053nm激光器進(jìn)行了偏振光柵結(jié)構(gòu)的優(yōu)化設(shè)計(jì)。利用嚴(yán)格耦合波理論分析了光柵偏振器的衍射特性及消光比,分析顯示偏振光柵周期為600nm,占寬比為0.535~0.55,槽形深度為1 395nm~1 420nm時(shí),可保證其在1 053nm波長(zhǎng)下,透射率高于95%,消光比大于1 500。基于分析結(jié)果,利用全息光刻技術(shù)制作了高質(zhì)量光刻膠光柵掩模,并采用傾斜轉(zhuǎn)動(dòng)的離子束刻蝕結(jié)合反應(yīng)離子束刻蝕的方法對(duì)該光刻膠光柵掩模進(jìn)行圖形轉(zhuǎn)移,制作了底部占寬比為0.54,槽形深度為1 400nm的光柵偏振器。實(shí)驗(yàn)測(cè)量顯示其透射率為92.9%,消光比達(dá)到160。與其他制作光柵偏振器方法相比,采用單光刻膠光柵掩模結(jié)合傾斜轉(zhuǎn)動(dòng)的離子束刻蝕工藝,不但簡(jiǎn)化了制作工藝,而且具有激光損傷閾值高、成本低的優(yōu)點(diǎn)。由于該技術(shù)可制作大面積光柵,特別利于在強(qiáng)激光系統(tǒng)中應(yīng)用。
【作者單位】： 蘇州大學(xué)物理與光電·能源學(xué)部蘇州納米科技協(xié)同創(chuàng)新中心;蘇州大學(xué)江蘇省先進(jìn)光學(xué)制造技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室教育部現(xiàn)代光學(xué)技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】： 高功率激光系統(tǒng) 光柵偏振器 嚴(yán)格耦合波理論 全息光刻 離子束刻蝕
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(No.60907017) 上海市全固態(tài)激光器與應(yīng)用技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室開(kāi)放課題資助項(xiàng)目(No.2014ADL02)
【分類(lèi)號(hào)】：TN24;TN25
【正文快照】： 1引言在強(qiáng)激光系統(tǒng)中會(huì)大量使用各種偏光器件。例如美國(guó)“國(guó)家點(diǎn)火裝置”中使用的大口徑偏振片,其和大口徑等離子體電極普克爾斯盒共同構(gòu)成光隔離器[1]。偏振片通常有雙折射晶體、偏振分光膜和高分子膜3種實(shí)現(xiàn)方法[2-4]:自然界存在的雙折射晶體具有偏振分光功能,但天然的雙折

【相似文獻(xiàn)】

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10 金秋楓;近紅外波段金屬線(xiàn)柵偏振器的設(shè)計(jì)與制作[D];蘇州大學(xué);2013年

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