碳化硅零電壓開關(guān)三相逆變器的研究
【學位單位】:浙江大學
【學位級別】:博士
【學位年份】:2019
【中圖分類】:TM464
【部分圖文】:
選擇目前主流的1200V/40A的SiC?MOSFET器件和Si?IGBT器件進行進一步的性能??對比,SiC?MOSFET器件為Wolfspeed公司的C2M0040120D,?Si?IGBT為英飛凌科技的??IKW40N120T2t38][39]。圖1.6所示為25°C結(jié)溫時兩種器件的靜態(tài)特性對比,圖1.6?(a)所??示為第一象限通態(tài)壓降匕,(或飽和壓降U與漏極電流厶(或集電極電流厶)的關(guān)系,??圖1.6?(b)聽示為第三象限通態(tài)壓降(或反并聯(lián)二極管正向壓降&)與漏極電流心(或??反并聯(lián)二極管正向電流人)的關(guān)系。在第一象限,顯然SiCMOSFET相比SilGBT具有更??小的通態(tài)壓降,隨著漏極電流的增大,兩者的通態(tài)壓降逐漸接近。在第三象限,雖然SiC??MOSFET體二極管的正向?qū)▔航颠h遠大于Si?IGBT的體二極管的正向?qū)▔航,但當??工作于同步整流模式時,SiCMOSFET體二極管的正向?qū)▔航笛杆贉p小,其壓降小于Si??IGBT體二極管的正向?qū)▔航怠??6??
圖1.6SiCMOSFET與SilGBT靜態(tài)特性對比(25°C結(jié)溫):(a)第一象限靜態(tài)特性;(b)??第三象限靜態(tài)特性??圖1.?7所示為80°C結(jié)溫時兩種器件的開關(guān)特性對比。采用為雙脈沖測試電路,驅(qū)動??電阻均為5Q,直流電壓600V,電流40A。顯然,SiCMOSFET相比SilGBT,具有開關(guān)??速度更快、反向恢復更小、無拖尾電流等特點。SiCMOSFET的開通損耗約為SilGBT的??四分之一,而其關(guān)斷損耗甚至都不到SilGBT的十分之一。另一方面,SilGBT的開通損??耗與關(guān)斷損耗比較接近,而SiCMOSFET的開通損耗遠大于其關(guān)斷損耗。??500?\?/?(IDA?rliy)?60??400?\?'?50??\?40??Eoff=?/^\?,?Power{10kVA!div)??200?/?\jr??100?3.04mJ/?'A?^??f?、、?-??100ns!?div??(a)??:齡)?7;??500?'一\?60??400?l?/;?{10?At?div)?5〇??300??30??200?Eon=?Power?(1?OkVA/div)?20??■?0.78mJ?/?io??〇?-?-???—?J??????〇???100?100nsl?div?_10??(b)??7??
片(Bare?Die)源極單獨連接,盡量避免連接在距離芯片源極較遠的功率路徑上。近年來,??很多研究提出了減小驅(qū)動回路、功率回路寄生電感的新型全SiC功率模塊封裝方案[45]-[53]。??富士電機提出了銅針與PCB結(jié)合的封裝方案[45]_[49],該功率模塊的剖面結(jié)構(gòu)如圖1.?9??所示。新方案撰棄了?Bonding線而采用銅針和柔性電路板代替,極短的銅針連接SiC功率??芯片與柔性電路板,同時功率回路在柔性電路板上下層形成鏡像,以此減小整個功率回路??的寄生電感。相比傳統(tǒng)的bonding線封裝,新封裝的開關(guān)損耗降低了?20%,而功率回路寄??生電感降低了?80%,新封裝的功率回路寄生電感(包含功率端子)約為12nH。??硅凝膠?DBC基板??\^ding^芯片^功率端子??陶瓷基片銅基板??(a)??柔性電路板??銅ft?/??環(huán)氧樹脂\?y?功率端子??nn ̄?\?/?I??h?厚銅層???\?N??DBC基板?Si3N4陶瓷基片??(b)??圖1.9富士電機提出的封裝方案:(a)傳統(tǒng)Bonding線封裝方案;(b)新封裝方案??文獻[51]提出了一種雙面散熱結(jié)構(gòu)的封裝方案。圖1.?10?(a)所示為半橋橋臂內(nèi)部芯片??間的連接方式和回路電流路徑:P-side散熱塊(HeatspreaderoftheP-side)替代DBC并與??兩個芯片的漏極相連,米用N-side散熱塊(Heat?spreader?of?the?N-side)替代Bonding線并??與兩個芯片的源極相連,上管芯片源極連接的N-side散熱塊通過中間夾層與下管芯片漏極??連接的P-side散熱塊相連
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