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基于機(jī)器視覺的磁瓦表面缺陷檢測系統(tǒng)

發(fā)布時間:2017-10-29 02:17

  本文關(guān)鍵詞:基于機(jī)器視覺的磁瓦表面缺陷檢測系統(tǒng)


  更多相關(guān)文章: 磁瓦表面缺陷 同態(tài)濾波 圖像分塊 視覺注意機(jī)制 隨機(jī)森林


【摘要】:磁瓦是永磁電機(jī)的組成部分,其表面缺陷檢測是磁瓦生產(chǎn)過程中的一個重要環(huán)節(jié)。目前磁瓦生產(chǎn)企業(yè)常用的措施是人工目測檢測,嚴(yán)重影響了生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。因此本文提出了一種基于機(jī)器視覺的磁瓦表面檢測方法,可實(shí)現(xiàn)實(shí)時、非接觸、高效率、高精度的磁瓦表面缺陷在線檢測。該方法在磁瓦生產(chǎn)線上的合理運(yùn)用對企業(yè)自動化生產(chǎn)具有重要意義。具體研究內(nèi)容如下:首先在分析磁瓦表面缺陷種類和特點(diǎn)的基礎(chǔ)上,對圖像處理平臺、相機(jī)、鏡頭進(jìn)行選型,針對性地設(shè)計了弧形直射型光源,以獲取高質(zhì)量的磁瓦表面圖像,并對圖像進(jìn)行濾波處理。針對磁瓦表面亮度不均勻問題,通過對三種常用的亮度不均勻校正算法結(jié)果進(jìn)行對比,提出了一種改進(jìn)同態(tài)濾波算法,并用形態(tài)學(xué)頂帽和底帽變換增強(qiáng)圖像對比度。該方法能有效均衡圖像亮度,并一定程度上凸顯缺陷區(qū)域。其次,結(jié)合圖像分塊思想,提出采用改進(jìn)均值、熵值和方差灰度特征量描述圖像塊特征。通過對比灰度特征量快速判斷磁瓦表面是否存在缺陷。針對圖像紋理情況,采用基于視覺注意機(jī)制的方法分割缺陷圖像塊,并提出了從視覺特征選擇方法、融合特征顯著圖的角度改進(jìn)Itti視覺顯著計算模型的方案。再次,通過對各種圖像特征的分析,選擇改進(jìn)均值、熵值和方差灰度特征量和閾值化圖像的七個Hu不變矩作為缺陷分類的依據(jù)。利用隨機(jī)森林分類器將缺陷圖像塊分類,識別出缺陷種類。最后在上述分析研究的基礎(chǔ)上,搭建系統(tǒng)軟件,并對軟件平臺和算法進(jìn)行測試,驗(yàn)證平臺的穩(wěn)定性和算法的可靠性。本文提出的算法能夠有效地檢測磁瓦表面缺陷,具有較好的實(shí)時性和可靠性,為后續(xù)在現(xiàn)場環(huán)境的在線缺陷檢測奠定堅實(shí)的基礎(chǔ)。
【關(guān)鍵詞】:磁瓦表面缺陷 同態(tài)濾波 圖像分塊 視覺注意機(jī)制 隨機(jī)森林
【學(xué)位授予單位】:安徽工業(yè)大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2016
【分類號】:TP391.41;TM351
【目錄】:
  • 摘要4-5
  • Abstract5-8
  • 第一章 緒論8-12
  • 1.1 課題研究背景和意義8
  • 1.2 機(jī)器視覺檢測技術(shù)研究現(xiàn)狀8-10
  • 1.2.1 機(jī)器視覺檢測定義8-9
  • 1.2.2 國內(nèi)外研究現(xiàn)狀9-10
  • 1.3 磁瓦表面缺陷視覺檢測技術(shù)10-11
  • 1.4 課題提出和研究內(nèi)容11-12
  • 第二章 檢測裝置總體設(shè)計12-19
  • 2.1 磁瓦典型缺陷分析12-13
  • 2.2 檢測裝置硬件設(shè)計13-17
  • 2.2.1 圖像處理平臺14
  • 2.2.2 光源設(shè)計14-15
  • 2.2.3 相機(jī)選型15-17
  • 2.2.4 鏡頭選型17
  • 2.3 檢測算法思路17-18
  • 2.4 本章小結(jié)18-19
  • 第三章 磁瓦表面圖像預(yù)處理19-28
  • 3.1 中值濾波19-20
  • 3.2 亮度不均勻處理20-27
  • 3.2.1 磁瓦表面亮度分析20
  • 3.2.2 亮度不均勻處理方法20-25
  • 3.2.3 基于改進(jìn)同態(tài)濾波的亮度不均勻校正25-27
  • 3.3 本章小結(jié)27-28
  • 第四章 磁瓦表面缺陷檢測和分割28-49
  • 4.1 磁瓦表面缺陷快速檢測28-36
  • 4.1.1 磁瓦表面圖像分塊28
  • 4.1.2 圖像塊灰度特征量28-33
  • 4.1.3 基于改進(jìn)的灰度特征量的缺陷檢測33-36
  • 4.2 磁瓦表面圖像分割36-40
  • 4.2.1 圖像分割簡述36-38
  • 4.2.2 磁瓦表面圖像分割算法分析38-40
  • 4.3 基于視覺注意機(jī)制的磁瓦表面缺陷分割40-48
  • 4.3.1 視覺注意簡介40
  • 4.3.2 視覺顯著度計算模型40-43
  • 4.3.3 基于改進(jìn)Itti模型的磁瓦表面缺陷分割43-48
  • 4.4 本章小結(jié)48-49
  • 第五章 磁瓦表面缺陷特征提取和分類49-58
  • 5.1 缺陷圖像特征提取49-51
  • 5.2 基于隨機(jī)森林缺陷分類51-54
  • 5.2.1 決策樹51-52
  • 5.2.2 隨機(jī)森林52-54
  • 5.3 基于隨機(jī)森林的磁瓦缺陷分類實(shí)驗(yàn)分析54-56
  • 5.4 本章小結(jié)56-58
  • 第六章 磁瓦缺陷檢測系統(tǒng)軟件設(shè)計與測試58-66
  • 6.1 軟件流程和模塊化設(shè)計58-62
  • 6.1.1 系統(tǒng)軟件流程58-59
  • 6.1.2 軟件平臺模塊化設(shè)計59-62
  • 6.2 軟件測試62-65
  • 6.2.1 軟件平臺測試62-63
  • 6.2.2 算法測試63-65
  • 6.3 本章小結(jié)65-66
  • 第七章 總結(jié)與展望66-68
  • 7.1 總結(jié)66
  • 7.2 展望66-68
  • 參考文獻(xiàn)68-72
  • 附錄A 插圖清單72-74
  • 附錄B 表格清單74-75
  • 附錄C 程序源碼75-86
  • 在學(xué)研究成果86-87
  • 致謝87

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本文編號:1110969

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