本文關(guān)鍵詞：反應(yīng)磁控濺射制備TiAlVN薄膜及性能研究

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【摘要】：利用反應(yīng)磁控濺射技術(shù),通過(guò)調(diào)節(jié)N2流速在單晶硅(n-110)表面制備了不同N含量的氮化鋁鈦釩(TiAlVN)薄膜。利用掃描電子顯微鏡(SEM)、納米壓入、X射線光電子能譜(XPS)和Autolab type3型電化學(xué)工作站等方法,分別對(duì)薄膜斷面形貌、力學(xué)性能、N元素成分含量及電化學(xué)腐蝕性能進(jìn)行了測(cè)試。結(jié)果表明,薄膜呈明顯的柱狀生長(zhǎng)方式,且薄膜生長(zhǎng)速度隨N2流速增加而單調(diào)降低;同時(shí),當(dāng)N2流速為15sccm時(shí),薄膜具有最高的硬度,為15.7GPa。隨著N2流速的進(jìn)一步增加,薄膜的硬度先減小后增大;此外,當(dāng)N2流速為30sccm時(shí)薄膜具有良好的電化學(xué)腐蝕性能。
【作者單位】： 蘭州理工大學(xué)石油化工學(xué)院;中國(guó)科學(xué)院蘭州化學(xué)物理研究所先進(jìn)潤(rùn)滑與防護(hù)材料研究發(fā)展中心;蘭州城市學(xué)院培黎石油工程學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】： 反應(yīng)磁控濺射 TiAlVN薄膜 電化學(xué)腐蝕
【基金】：國(guó)家重點(diǎn)基礎(chǔ)研究發(fā)展計(jì)劃(2013CB632304) 國(guó)家自然科學(xué)基金(51205383;51275508) 甘肅省高等學(xué)�？蒲许�(xiàng)目(2013B-070) 蘭州市科技局項(xiàng)目(41385)
【分類號(hào)】：TB383.2
【正文快照】： TiN薄膜由于其高熔點(diǎn)、高硬度以及良好的導(dǎo)熱導(dǎo)電性能,被用于飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)壓氣機(jī)葉片以及化工設(shè)備的保護(hù)涂層。同時(shí),TiN薄膜也被廣泛應(yīng)用于機(jī)械切削工具、裝飾等領(lǐng)域,特別適用于硬質(zhì)合金刀具和耐磨零部件[1-3]。目前,制備TiN薄膜的方法主要有電子束蒸鍍、電弧離子鍍、等離子體浸

【參考文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前9條

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8 雷斌;朱e，

本文編號(hào)：714507