本文關(guān)鍵詞：溶劑去除速度對(duì)于溶劑退火薄膜相形貌的影響，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：以聚苯乙烯-聚4-乙烯基吡啶(PS-b-P4VP)嵌段共聚物作為研究對(duì)象,采用DMF作為退火溶劑,以原子力顯微鏡(AFM)和透射電子顯微鏡(TEM)為表征手段,研究了溶劑退火后期溶脹薄膜中溶劑的去除速度對(duì)于薄膜相形貌的影響,發(fā)現(xiàn)通過改變?nèi)軇┤コ俣瓤梢杂行У恼{(diào)控薄膜中的形貌.當(dāng)薄膜厚度為35 nm時(shí),DMF的快速揮發(fā)會(huì)導(dǎo)致薄膜中形成以PS為分散相的反轉(zhuǎn)柱狀相結(jié)構(gòu),當(dāng)降低溶劑的揮發(fā)速度時(shí),薄膜中形成了以PS為分散相的環(huán)狀形貌,當(dāng)進(jìn)一步減緩揮發(fā)速度時(shí),薄膜中將形成臺(tái)階狀的片層結(jié)構(gòu);然而當(dāng)薄膜厚度為55 nm時(shí),溶劑退火后期薄膜中形成的是以P4VP為分散相的正常柱狀相結(jié)構(gòu),在相同溶劑去除速度條件下薄膜相形貌變化較小.
【作者單位】： 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春應(yīng)用化學(xué)研究所高分子物理與化學(xué)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;中國(guó)科學(xué)院大學(xué);中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所發(fā)光學(xué)及應(yīng)用國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】： 嵌段共聚物 溶劑退火 溶劑去除速度 相形貌 環(huán)狀形貌
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金(基金號(hào)21474108)資助項(xiàng)目
【分類號(hào)】：TQ317;TB383.2
【正文快照】： **通訊聯(lián)系人,E-mail:hyhuang@ciac.ac.cn;tbhe@ciac.ac.cn嵌段共聚物薄膜能夠自組裝形成在納米尺度形貌可調(diào)的有序結(jié)構(gòu)(5~100 nm),相比于“自上而下”(bottom-up)的納米圖案化手段,如電子束刻蝕(E-beam lithography),DPN(dip-pennanolithography)方法,極紫外刻蝕(extremeultr

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