摻雜單晶硅納米材料力學(xué)性能的多尺度理論模型及模擬
本文關(guān)鍵詞:摻雜單晶硅納米材料力學(xué)性能的多尺度理論模型及模擬,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。
【摘要】:硅納米材料物理性能的研究對(duì)其在半導(dǎo)體技術(shù)中的應(yīng)用是十分重要的,而摻雜有利于改善硅納米材料的物理特性,提高應(yīng)用價(jià)值。本文基于半連續(xù)體模型計(jì)算方法和分子動(dòng)力學(xué)模擬方法,系統(tǒng)的研究了摻雜對(duì)單晶硅納米材料的力學(xué)性能的影響。論文工作分為以下三個(gè)部分:(1)通過基于半連續(xù)體模型運(yùn)用Keating形變勢(shì)模型計(jì)算,研究分析了摻雜濃度及摻雜位置對(duì)單晶硅納米膜楊氏模量與膜厚關(guān)系的影響,結(jié)果表明,摻雜磷元素有利于改善硅膜的楊氏模量,但效果并不明顯,而影響硅膜楊氏模量的主要因素是硅膜的膜厚而不是摻雜濃度和摻雜位置。(2)通過半連續(xù)體模型計(jì)算的方法,分別計(jì)算了在硅晶胞的不同位置處進(jìn)行磷元素?fù)诫s梁的撓度和諧振頻率,結(jié)果表明,摻雜位置和摻雜濃度并不是影響單晶硅納米梁諧振頻率和撓度的主要因素,而梁的尺寸是影響單晶硅納米梁諧振頻率的主要因素。(3)通過分子動(dòng)力學(xué)方法研究了在硅晶胞的不同位置處進(jìn)行摻雜時(shí),摻雜濃度和尺寸對(duì)單晶硅納米梁諧振頻率的影響。結(jié)果表明,摻雜濃度和摻雜位置會(huì)影響單晶硅納米梁的諧振頻率,但是影響很小,而梁的尺寸才是影響其撓度和諧振頻率的主要因素。本論文主要是用理論計(jì)算和模擬的方法來研究摻雜單晶硅納米材料的力學(xué)性能,并取得了一些成果。該研究結(jié)果對(duì)研究硅納米材料的其他力學(xué)特性有一定的參考價(jià)值,也為進(jìn)一步研究摻雜對(duì)納米硅材料力學(xué)性能的影響提供一種全新思路。
【關(guān)鍵詞】:單晶硅納米材料 摻雜 楊氏模量 諧振頻率
【學(xué)位授予單位】:新疆大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2016
【分類號(hào)】:TB383.1
【目錄】:
- 摘要2-3
- Abstract3-8
- 第一章 緒論8-20
- 1.1 課題研究背景及意義8-9
- 1.2 相關(guān)研究綜述9-14
- 1.2.1 實(shí)驗(yàn)方法9-10
- 1.2.2 理論計(jì)算方法10-13
- 1.2.2.1 連續(xù)體模型11
- 1.2.2.2 半連續(xù)體模型11-12
- 1.2.2.3 基于半連續(xù)體模型的Keating形變勢(shì)模型12
- 1.2.2.4 第一性原理密度泛函理論12-13
- 1.2.3 理論模擬方法13-14
- 1.3 論文的主要工作14-16
- 參考文獻(xiàn)16-20
- 第二章 摻雜單晶硅納米薄膜楊氏模量的計(jì)算20-49
- 2.1 引言20
- 2.2 摻雜硅膜楊氏模量的計(jì)算20-43
- 2.2.1 硅晶胞四分之一體對(duì)角線處摻雜磷22-35
- 2.2.2 硅晶胞頂角處摻雜35-43
- 2.3 結(jié)果分析與討論43-46
- 2.3.1 摻雜對(duì)硅膜楊氏模量的影響43-44
- 2.3.2 摻雜濃度對(duì)硅膜楊氏模量的影響44-46
- 2.4 本章小結(jié)46-47
- 參考文獻(xiàn)47-49
- 第三章 摻雜硅納米梁諧振頻率的半連續(xù)體模型計(jì)算49-64
- 3.1 引言49
- 3.2 摻雜硅梁撓度的計(jì)算49-55
- 3.2.1 硅晶胞四分之一對(duì)角線處摻雜磷的撓度50-52
- 3.2.2 硅晶胞頂角處摻雜磷的撓度52-54
- 3.2.3 純硅梁的撓度54-55
- 3.3 摻雜硅梁諧振頻率的模型計(jì)算55-58
- 3.3.1 硅晶胞四分之一對(duì)角線處摻雜磷56-57
- 3.3.2 硅晶胞頂角處摻雜磷57-58
- 3.3.3 純硅梁諧振頻率58
- 3.4 結(jié)果分析與討論58-62
- 3.4.1 不同摻雜位置對(duì)硅梁撓度的影響58-59
- 3.4.2 不同長(zhǎng)度和厚度對(duì)硅梁諧振頻率的影響59-60
- 3.4.3 不同摻雜濃度對(duì)硅梁諧振頻率的影響60-62
- 3.5 本章小結(jié)62-63
- 參考文獻(xiàn)63-64
- 第四章 摻雜硅納米梁諧振頻率的分子動(dòng)力學(xué)模擬64-73
- 4.1 引言64
- 4.2 模擬模型建立64-67
- 4.2.1 硅晶胞四分之一對(duì)角線處摻雜磷的諧振頻率值65-66
- 4.2.2 硅晶胞頂角處摻雜磷的諧振頻率值66-67
- 4.2.3 長(zhǎng)度為 32A的硅梁的諧振頻率值67
- 4.3 結(jié)果分析與討論67-69
- 4.3.1 摻雜濃度和長(zhǎng)度尺寸對(duì)硅梁諧振頻率的影響67-68
- 4.3.2 摻雜濃度和厚度尺寸對(duì)硅梁諧振頻率的影響68-69
- 4.4 分子動(dòng)力學(xué)模擬與半連續(xù)體模型計(jì)算的比較69-70
- 4.5 本章小結(jié)70-72
- 參考文獻(xiàn)72-73
- 第五章 總結(jié)與展望73-75
- 5.1 總結(jié)73-74
- 5.2 展望74-75
- 發(fā)表文章目錄75-76
- 致謝76-77
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