本文關(guān)鍵詞：共濺射V-Zr合金薄膜:化合物、微結(jié)構(gòu)和硬度，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：為了揭示合金薄膜中金屬間化合物對薄膜微結(jié)構(gòu)和力學(xué)性能的影響,通過雙靶磁控共濺射方法制備了一系列不同Zr含量的V-Zr合金薄膜,采用能量分散譜、X射線衍射、透射電鏡和納米力學(xué)探針研究了薄膜微結(jié)構(gòu)和硬度隨Zr含量的變化。研究結(jié)果表明:由于濺射薄膜生長的高非平衡性,Zr原子可以過飽和地固溶于V的晶格中,并造成晶格的畸變,使薄膜的晶粒在低的Zr含量下就成為納米晶,隨著Zr含量的增加,薄膜形成由V和V_2Zr組成的非晶結(jié)構(gòu),并且逐步轉(zhuǎn)變?yōu)橹饕蒝_2Zr化合物組成的非晶。與微結(jié)構(gòu)的變化相對應(yīng),薄膜的硬度在低Zr含量時因過飽和固溶和晶粒的納米化迅速提高,而形成非晶結(jié)構(gòu)后則因V_2Zr的逐步增加而維持在高值。
【作者單位】： 上海交通大學(xué)金屬基復(fù)合材料國家重點實驗室;上海電機學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】： V-Zr合金 薄膜 微結(jié)構(gòu) 硬度 磁控濺射
【基金】：國家自然科學(xué)基金資助項目(批準號:51371118,51401120) 內(nèi)蒙古自然科學(xué)基金資助項目(批準號:2015MS0554)
【分類號】：TB383.2
【正文快照】：

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