本文關(guān)鍵詞：射頻磁控濺射法制備Ti摻雜ITO薄膜的厚度對(duì)膜結(jié)構(gòu)與光電性能的影響，，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

【摘要】：利用Ti摻雜ITO靶材,采用單靶磁控濺射法在玻璃基底上制備厚度為50~300 nm的ITO:Ti薄膜。借助X射線衍射(XRD)、原子力顯微鏡(AFM)、可見(jiàn)光分光光度計(jì)、霍爾測(cè)試系統(tǒng)和四探針電阻測(cè)量?jī)x,研究薄膜厚度對(duì)薄膜的晶體結(jié)構(gòu)、表面形貌和光電性能的影響。結(jié)果表明:ITO:Ti薄膜呈現(xiàn)(400)擇優(yōu)取向,隨薄膜厚度增加,薄膜的結(jié)晶程度增強(qiáng),晶粒度增大,薄膜更致密。隨薄膜厚度增加,薄膜的均方根粗糙度和平均粗糙度以及電阻率都先減小再增加,薄膜厚度為250 nm時(shí),表面粗糙度最小,蔣膜厚度為200 nm時(shí),電阻率最低,為2.1×10-3?·cm。不同厚度的薄膜對(duì)可見(jiàn)光區(qū)的平均透過(guò)率都在89%以上。
【作者單位】： 北京科技大學(xué)冶金與生態(tài)工程學(xué)院;稀有金屬特種材料國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;高端金屬材料特種熔煉與制備北京市重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】： 射頻磁控濺射 半導(dǎo)體 ITO Ti薄膜 薄膜厚度 光電性能
【基金】：中央高�；究蒲袠I(yè)務(wù)費(fèi)專項(xiàng)資金資助項(xiàng)目(FRF-BD-15-004A)
【分類號(hào)】：TB383.2
【正文快照】： 2.高端金屬材料特種熔煉與制備北京市重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,北京100083;3.稀有金屬特種材料國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,石嘴山753000)氧化銦錫(indium tin oxide,ITO)是一種重?fù)诫s、高簡(jiǎn)并的n型半導(dǎo)體材料,載流子濃度約為1021 cm3,電導(dǎo)率可達(dá)104?·cm,其主要成分是In2O3,In2O3具有體心立方結(jié)構(gòu),密度

【相似文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

1 李云良;田振輝;譚惠豐;;屈曲薄膜振動(dòng)分析[J];工程力學(xué);2008年11期

2 肖瀟;關(guān)富玲;程亮;;基于能量動(dòng)量方法的空間薄膜結(jié)構(gòu)的展開分析[J];工程力學(xué);2011年04期

3 譚惠豐;余建新;衛(wèi)劍征;;空間薄膜結(jié)構(gòu)動(dòng)態(tài)測(cè)試研究最新進(jìn)展[J];實(shí)驗(yàn)力學(xué);2012年04期

4 王燦;門玉濤;李林安;;含有界面裂紋薄膜的有限元分析[J];科學(xué)技術(shù)與工程;2007年16期

5 徐彥;關(guān)富玲;;可展開薄膜結(jié)構(gòu)折疊方式和展開過(guò)程研究[J];工程力學(xué);2008年05期

6 譚惠豐;李云良;;薄膜后屈曲振動(dòng)行為分析[J];哈爾濱工業(yè)大學(xué)學(xué)報(bào);2011年S1期

7 立早;硬質(zhì)炭薄膜的制造技術(shù)[J];新型碳材料;1991年02期

8 姜訓(xùn)勇,徐惠彬,蔣成保,宮聲凱;形狀記憶薄膜的研究進(jìn)展[J];材料導(dǎo)報(bào);2000年07期

9 張昊;吳贊敏;劉淑梅;;改善防水透濕薄膜彈性的研究[J];產(chǎn)業(yè)用紡織品;2009年02期

10 冉春華;金義棟;祝聞;聶朝胤;;應(yīng)力對(duì)薄膜結(jié)構(gòu)與性能影響的研究現(xiàn)狀[J];材料導(dǎo)報(bào);2013年05期

中國(guó)重要會(huì)議論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

1 辛煜;方亮;陸新華;甘肇強(qiáng);康健;葉超;程珊華;寧兆元;;微波ECR-CVD的宏觀參數(shù)對(duì)a-C:F膜結(jié)構(gòu)的影響[A];第四屆中國(guó)功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議論文集[C];2001年

2 王友善;王長(zhǎng)國(guó);杜星文;;薄膜充氣梁的皺曲行為分析[A];第十五屆全國(guó)復(fù)合材料學(xué)術(shù)會(huì)議論文集（下冊(cè)）[C];2008年

3 馬平;胡建平;唐明;邱服民;王震;于杰;;高功率激光薄膜及相關(guān)檢測(cè)技術(shù)[A];中國(guó)工程物理研究院科技年報(bào)（2005）[C];2005年

4 藺增;巴德純;;種植體表面碳基薄膜的制備及生物摩擦學(xué)性能研究[A];第十一屆全國(guó)摩擦學(xué)大會(huì)論文集[C];2013年

5 徐東;呂霞;戚震中;蔡柄初;;鐵基巨磁阻抗薄膜的研究[A];華東三省一市第三屆真空學(xué)術(shù)交流會(huì)論文集[C];2000年

6 許小紅;段靜芳;王芳;李小麗;武海順;;TbCo薄膜結(jié)構(gòu)和磁性能的退火研究[A];2004’全國(guó)真空冶金與表面工程學(xué)術(shù)研討會(huì)會(huì)議論文集[C];2004年

7 徐爽;郭雅芳;;單晶銅薄膜單向拉伸變形的原子模擬[A];北京力學(xué)會(huì)第十六屆學(xué)術(shù)年會(huì)論文集[C];2010年

8 李曉雷;徐廷獻(xiàn);;La_2NiO_4薄膜的制備及其氧敏特性的研究[A];第四屆中國(guó)功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議論文集[C];2001年

9 陳友明;楊生榮;張俊彥;;碳含量對(duì)BC_xN薄膜結(jié)構(gòu)和性能的影響[A];中國(guó)真空學(xué)會(huì)2008年學(xué)術(shù)年會(huì)論文摘要集[C];2008年

10 樊珊;陳俊英;孫鴻;黃楠;;用等離子體方法以及化學(xué)處理對(duì)Ti-O薄膜進(jìn)行活化改性的研究[A];第六屆中國(guó)功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議論文集（5）[C];2007年

中國(guó)博士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

1 羅勝耘;磁控濺射制備多層TiO_2薄膜的光電化學(xué)特性研究[D];復(fù)旦大學(xué);2014年

2 秦國(guó)平;銦（銅）-氮共摻p型氧化鋅薄膜的制備和性能研究[D];重慶大學(xué);2015年

3 楊蒙蒙;VO_2外延薄膜的制備和相變機(jī)理研究[D];中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué);2015年

4 張化福;納米氧化釩薄膜的低溫制備及結(jié)構(gòu)與相變性能研究[D];電子科技大學(xué);2014年

5 趙昊巖;溶液法制備有機(jī)晶態(tài)薄膜及其晶體管特性研究[D];清華大學(xué);2015年

6 張海燕;復(fù)合鉿基高k薄膜的雙頻等離子體涂覆及機(jī)理研究[D];蘇州大學(xué);2015年

7 肖順豪;鉍薄膜的結(jié)構(gòu)與輸送性質(zhì)研究[D];復(fù)旦大學(xué);2011年

8 董東;多孔二氧化硅薄膜的構(gòu)建及性能研究[D];電子科技大學(xué);2011年

9 劉暉;金屬—絕緣體顆粒薄膜的輸運(yùn)特性研究[D];天津大學(xué);2004年

10 劉東青;基于非晶態(tài)摻鍶錳酸鑭薄膜的憶阻器研究[D];國(guó)防科學(xué)技術(shù)大學(xué);2014年

中國(guó)碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

1 王艷艷;液相法制備Ti0_2和Cu_2S薄膜的摩擦學(xué)性能的研究[D];青島理工大學(xué);2015年

2 臺(tái)運(yùn)東;高功率脈沖磁控濺射技術(shù)制備Ti-Cu薄膜及血小板粘附件為[D];西南交通大學(xué);2015年

3 張錦萊;薄膜結(jié)構(gòu)的屈曲與振動(dòng)特性研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2015年

4 張偉華;Ag負(fù)載對(duì)N摻雜TiO_2薄膜的光電及光催化性能的影響[D];太原理工大學(xué);2016年

5 方仁德;CdS薄膜的化學(xué)法合成及成膜機(jī)制探討[D];大連工業(yè)大學(xué);2014年

6 尚倫霖;齒輪表面碳化硼薄膜的制備及性能研究[D];蘭州交通大學(xué);2015年

7 尹軍;鋯等元素?fù)诫s鐵酸鉍薄膜的制備和性能研究[D];山東建筑大學(xué);2014年

8 王謙之;碳氮化物薄膜的環(huán)境摩擦學(xué)特性研究[D];南京航空航天大學(xué);2010年

9 秦聰祥;鈦基及鋯基多元氮化物薄膜的組織與性能研究[D];廣東工業(yè)大學(xué);2006年

10 張逸塵;絕緣彈膠物的褶皺與預(yù)防[D];浙江大學(xué);2010年

  本文關(guān)鍵詞：射頻磁控濺射法制備Ti摻雜ITO薄膜的厚度對(duì)膜結(jié)構(gòu)與光電性能的影響，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

本文編號(hào)：444611