表面氧化外延法中溫制備涂層導體NiO種子層
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【摘要】:高溫超導涂層導體是解決當今能源危機的重要復合材料之一,而經(jīng)濟、有效、節(jié)能的制備技術是涂層導體廣泛應用的關鍵.本文采用表面氧化外延法在Ni-wt.5%W基帶上普氬下中溫氧化制備了立方織構的NiO種子層.通過對氧化溫度和氧化時間兩個主要因素分析,確定了NiO生長條件為普氬中790℃內保溫20mins。與高溫(空氣中1000℃以上)制備相比,降低了氧化膜制備溫度.薄膜厚度大約為650nm.最后在生成的NiO薄膜上化學溶液沉積了YBa2Cu3O7-δ/SmBiO_3復合層,所得樣品超導轉變溫度為89 K,77 K自場下臨界電流密度為1.46 MA/cm2(77K,零場).中溫表面氧化外延法為涂層導體制備提供了一種實用可行路徑.
【作者單位】: 西南交通大學超導與新能源研究開發(fā)中心材料先進技術教育部重點實驗室;
【關鍵詞】: 涂層導體 表面氧化外延 NiO種子層
【正文快照】: 1引 言第二代高溫超導材料具有節(jié)能、環(huán)保的巨大優(yōu)勢.高溫涂層導體成了超導材料中研制的焦點之一[1-3].由于YBa2Cu3O7-δ(YBCO)各向異性,在電流輸運時存在晶界弱連接問題,需將其制備成織構的薄膜才能克服這個問題.常用的方法是在織構的金屬基帶上外延生長超導薄膜.含W的Ni
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本文編號:424044
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