反應(yīng)性復(fù)合薄膜CuO-Al在激光驅(qū)動(dòng)飛片技術(shù)中的性能研究
發(fā)布時(shí)間:2024-12-31 22:38
本文主要針對(duì)復(fù)合含能薄膜在激光驅(qū)動(dòng)飛片技術(shù)中的作用機(jī)理,研究了CuO-Al復(fù)合薄膜厚度比和調(diào)制周期對(duì)CuO-Al-Al2O3-Al復(fù)合飛片速度的影響以及調(diào)制周期對(duì)激光誘導(dǎo)CuO-Al復(fù)合薄膜等離子體特性的影響。利用真空磁控濺射技術(shù)制備了CuO-Al反應(yīng)性復(fù)合薄膜和CuO-Al-Al2O3-Al復(fù)合飛片,通過SEM、XRD等檢測(cè)手段對(duì)復(fù)合薄膜的結(jié)構(gòu)進(jìn)行表征,結(jié)果表明:隨著薄膜厚度的增加,薄膜團(tuán)聚現(xiàn)象增加,薄膜顆粒尺寸增大;復(fù)合薄膜不同材料膜層的分界面清晰可見,具有明顯的層狀結(jié)構(gòu)。通過DTA對(duì)反應(yīng)性復(fù)合薄膜CuO-Al進(jìn)行熱分析,結(jié)果表明:CuO薄膜和Al薄膜納米尺度越小,層界面接觸面積越大,第一放熱峰放熱量越大且在總放熱量中的占比越高。運(yùn)用PDV測(cè)速技術(shù)測(cè)量復(fù)合飛片速度,結(jié)果表明:在一定激光能量密度范圍內(nèi),將反應(yīng)性薄膜CuO-Al作為復(fù)合飛片的燒蝕層材料,能顯著提高飛片速度;CuO-Al放熱量對(duì)CuO-Al-Al2O3-Al復(fù)合飛片速度有影響,CuO-Al放熱量的增加有助于提高飛片速度;在燒蝕層膜厚一定時(shí),采用調(diào)制周期較小的反應(yīng)性復(fù)合薄膜作為燒蝕層材料不僅能提高飛片速度,而且有助于提高飛片...
【文章頁數(shù)】:69 頁
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
Abstract
1 緒論
1.1 研究背景及研究意義
1.1.1 激光驅(qū)動(dòng)飛片技術(shù)
1.1.2 反應(yīng)性復(fù)合薄膜
1.1.3 研究意義
1.2 國內(nèi)外研究概況
1.2.1 CuO-Al反應(yīng)性復(fù)合薄膜研究概況
1.2.2 復(fù)合飛片燒蝕層材料的研究概況
1.2.3 復(fù)合飛片隔熱層研究概況
1.2.4 激光燒蝕薄膜產(chǎn)生等離子體研究概況
1.3 本文的主要研究內(nèi)容
2 薄膜制備和表征
2.1 薄膜制備方法
2.1.1 磁控濺射原理
2.1.2 實(shí)驗(yàn)設(shè)備
2.1.3 靶材與基片處理
2.1.4 鍍膜流程
2.1.5 薄膜制備參數(shù)
2.2 復(fù)合薄膜表征
2.2.1 薄膜XRD分析
2.2.2 薄膜SEM分析
2.2.3 薄膜DTA分析
2.3 小結(jié)
3 復(fù)合飛片速度特性研究
3.1 飛片速度測(cè)量方法
3.2 光子多普勒測(cè)速
3.3 CuO-Al反應(yīng)性復(fù)合薄膜對(duì)飛片速度的影響
3.3.1 激光能量對(duì)飛片速度的影響
3.3.2 CuO-Al薄膜厚度比對(duì)飛片速度的影響
3.3.3 CuO-Al調(diào)制周期對(duì)飛片速度的影響
3.4 Al2O3隔熱層對(duì)復(fù)合飛片速度的影響
3.5 小結(jié)
4 激光誘導(dǎo)CuO-Al復(fù)合薄膜發(fā)射光譜分析
4.1 等離子體特性研究理論與實(shí)驗(yàn)方法
4.1.1 等離子體特性實(shí)驗(yàn)方法
4.1.2 等離子體電子溫度計(jì)算方法
4.1.3 等離子體電子密度計(jì)算方法
4.2 發(fā)射光譜定性分析
4.3 等離子體電子溫度
4.3.1 等離子體電子溫度測(cè)量
4.3.2 激光脈沖能量對(duì)等離子體電子溫度的影響
4.3.3 復(fù)合薄膜調(diào)制周期對(duì)等離子體電子溫度的影響
4.4 等離子體電子密度
4.4.1 復(fù)合薄膜發(fā)射光譜展寬特點(diǎn)
4.4.2 不同調(diào)制周期復(fù)合薄膜等離子體電子密度
4.5 Boltzmann圖譜法和局部熱力學(xué)平衡驗(yàn)證
4.6 小結(jié)
5 總結(jié)
5.1 本文工作總結(jié)
5.2 創(chuàng)新點(diǎn)
5.3 工作展望
致謝
參考文獻(xiàn)
附錄
本文編號(hào):4021640
【文章頁數(shù)】:69 頁
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
Abstract
1 緒論
1.1 研究背景及研究意義
1.1.1 激光驅(qū)動(dòng)飛片技術(shù)
1.1.2 反應(yīng)性復(fù)合薄膜
1.1.3 研究意義
1.2 國內(nèi)外研究概況
1.2.1 CuO-Al反應(yīng)性復(fù)合薄膜研究概況
1.2.2 復(fù)合飛片燒蝕層材料的研究概況
1.2.3 復(fù)合飛片隔熱層研究概況
1.2.4 激光燒蝕薄膜產(chǎn)生等離子體研究概況
1.3 本文的主要研究內(nèi)容
2 薄膜制備和表征
2.1 薄膜制備方法
2.1.1 磁控濺射原理
2.1.2 實(shí)驗(yàn)設(shè)備
2.1.3 靶材與基片處理
2.1.4 鍍膜流程
2.1.5 薄膜制備參數(shù)
2.2 復(fù)合薄膜表征
2.2.1 薄膜XRD分析
2.2.2 薄膜SEM分析
2.2.3 薄膜DTA分析
2.3 小結(jié)
3 復(fù)合飛片速度特性研究
3.1 飛片速度測(cè)量方法
3.2 光子多普勒測(cè)速
3.3 CuO-Al反應(yīng)性復(fù)合薄膜對(duì)飛片速度的影響
3.3.1 激光能量對(duì)飛片速度的影響
3.3.2 CuO-Al薄膜厚度比對(duì)飛片速度的影響
3.3.3 CuO-Al調(diào)制周期對(duì)飛片速度的影響
3.4 Al2O3隔熱層對(duì)復(fù)合飛片速度的影響
3.5 小結(jié)
4 激光誘導(dǎo)CuO-Al復(fù)合薄膜發(fā)射光譜分析
4.1 等離子體特性研究理論與實(shí)驗(yàn)方法
4.1.1 等離子體特性實(shí)驗(yàn)方法
4.1.2 等離子體電子溫度計(jì)算方法
4.1.3 等離子體電子密度計(jì)算方法
4.2 發(fā)射光譜定性分析
4.3 等離子體電子溫度
4.3.1 等離子體電子溫度測(cè)量
4.3.2 激光脈沖能量對(duì)等離子體電子溫度的影響
4.3.3 復(fù)合薄膜調(diào)制周期對(duì)等離子體電子溫度的影響
4.4 等離子體電子密度
4.4.1 復(fù)合薄膜發(fā)射光譜展寬特點(diǎn)
4.4.2 不同調(diào)制周期復(fù)合薄膜等離子體電子密度
4.5 Boltzmann圖譜法和局部熱力學(xué)平衡驗(yàn)證
4.6 小結(jié)
5 總結(jié)
5.1 本文工作總結(jié)
5.2 創(chuàng)新點(diǎn)
5.3 工作展望
致謝
參考文獻(xiàn)
附錄
本文編號(hào):4021640
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