利用光學(xué)光刻技術(shù)進(jìn)行多種形狀規(guī)格聚二甲基硅氧烷(PDMS)微納敏感結(jié)構(gòu)的并行加工。研究了基于光學(xué)光刻技術(shù)的PDMS微納敏感結(jié)構(gòu)薄膜加工工藝,并加工出不同形狀、、不同大小的PDMS微納敏感結(jié)構(gòu)。此外,對(duì)加工后的PDMS微納敏感結(jié)構(gòu)薄膜進(jìn)行表征,觀察了不同形狀、不同大小的PDMS微納敏感結(jié)構(gòu)的形貌特征。結(jié)果表明:基于光學(xué)光刻技術(shù)的PDMS微納敏感結(jié)構(gòu)薄膜加工工藝具有加工效率高,加工過(guò)程中不需要刻蝕、激光加工等復(fù)雜工藝和昂貴設(shè)備的特點(diǎn),并且實(shí)現(xiàn)了大批量PDMS微納敏感結(jié)構(gòu)的并行加工。同時(shí),掩模板上的微納圖案較好地轉(zhuǎn)移到PDMS薄膜上,具有較好的圖案曝光成像和圖形轉(zhuǎn)移效果。此外,制備的PDMS微納敏感結(jié)構(gòu)形狀較規(guī)則、排列整齊,并且不同形狀,不同大小的PDMS微納敏感結(jié)構(gòu)都具有高度一致性較好,側(cè)面輪廓分明,側(cè)壁角接近90°的特征。

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【文章目錄】：
1 實(shí)驗(yàn)方法
2 結(jié)果與討論
3 結(jié)論



本文編號(hào)：3957720