用原子力顯微鏡(AFM)和X射線衍射(XRD)研究了不同厚度Cu/Co雙層膜的表面形貌和微觀結(jié)構(gòu),并用振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)(VSM)測(cè)量了磁滯回線。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,薄膜表面由均勻島狀結(jié)構(gòu)組成,隨著Co薄膜厚度增加,"小島"高度升高,之后部分"小島"發(fā)生合并長(zhǎng)大。當(dāng)Co薄膜厚度為5和15nm時(shí),Co為fcc結(jié)構(gòu);當(dāng)Co薄膜厚度為30nm時(shí),fcc結(jié)構(gòu)和hcp結(jié)構(gòu)同時(shí)存在。此外,隨著Co薄膜厚度增加,對(duì)應(yīng)磁滯回線矩形度逐漸變大,并且矯頑力和飽和磁化強(qiáng)度逐漸增大。

【文章頁(yè)數(shù)】：5 頁(yè)

【文章目錄】：
0 引言
1 實(shí)驗(yàn)材料與方法
2 結(jié)果與討論
3 結(jié)論



本文編號(hào)：3956224