原子層沉積的蒙特卡洛模擬及其空間位阻效應(yīng)的研究
發(fā)布時(shí)間:2024-03-22 03:04
原子層沉積(ALD)的飽和沉積特性使得該技術(shù)被廣泛應(yīng)用于對(duì)材料厚度和純度要求極高的電子行業(yè),進(jìn)而引起人們的廣泛關(guān)注。材料生長(zhǎng)機(jī)制是材料科學(xué)研究的重要內(nèi)容,對(duì)ALD過(guò)程進(jìn)行計(jì)算機(jī)仿真,能夠幫助人們深入了解實(shí)驗(yàn)手段無(wú)法獲得的沉積機(jī)理,進(jìn)而對(duì)改進(jìn)和優(yōu)化薄膜生長(zhǎng)工藝,提高薄膜質(zhì)量和性質(zhì)具有極為重要的意義。為了研究難以通過(guò)實(shí)驗(yàn)方法了解的ALD納米薄膜沉積的形貌演化過(guò)程,本文引入了一個(gè)以隨機(jī)沉積和擴(kuò)散限制聚集為基礎(chǔ)的蒙特卡羅模型。通過(guò)采用較為新穎的切入點(diǎn),模擬納米級(jí)沉積單元的聚合,成功觀察到了薄膜形態(tài)的瞬時(shí)演變過(guò)程及其相應(yīng)的參數(shù)。盡管模擬過(guò)程中簡(jiǎn)化了ALD過(guò)程涉及的一些化學(xué)細(xì)節(jié),模擬結(jié)果仍然能夠定性地描述前驅(qū)體分子較大的ALD實(shí)驗(yàn),并且獲得了生長(zhǎng)速率與空間位阻之間的強(qiáng)烈依賴性。此外,完全基于建模準(zhǔn)確預(yù)測(cè)并分析了ALD穩(wěn)定生長(zhǎng)階段之前眾所周知的生長(zhǎng)延遲行為。通過(guò)這項(xiàng)工作,描述了空間位阻對(duì)ALD生長(zhǎng)初期階段的巨大影響。本文針對(duì)原子層沉積的計(jì)算機(jī)仿真進(jìn)行了系統(tǒng)性研究,研究?jī)?nèi)容可以概括為以下幾個(gè)方面:(1)在對(duì)現(xiàn)有模型歸納總結(jié)的基礎(chǔ)上,結(jié)合ALD獨(dú)特的飽和沉積特性,抽象并建立了針對(duì)于ALD無(wú)定形薄膜的沉積...
【文章頁(yè)數(shù)】:73 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
Abstract
第一章 緒論
1.1 前言
1.2 原子層沉積技術(shù)概述
1.2.1 ALD技術(shù)的發(fā)展
1.2.2 ALD過(guò)程及其工藝特點(diǎn)
1.2.3 ALD的應(yīng)用
1.3 計(jì)算機(jī)模擬概述
第二章 原子層沉積的計(jì)算機(jī)仿真
2.1 引言
2.2 薄膜生長(zhǎng)理論及模擬方法
2.2.1 薄膜的生長(zhǎng)過(guò)程
2.2.2 薄膜的生長(zhǎng)模式
2.2.3 薄膜生長(zhǎng)模擬的方法
2.3 ALD薄膜生長(zhǎng)模型的分析
2.3.1 生長(zhǎng)模型概述
2.3.2 基于反應(yīng)動(dòng)力學(xué)的模型
2.3.3 基于表面熱力學(xué)及動(dòng)力學(xué)的模型
2.4 小結(jié)
第三章 原子層沉積過(guò)程的三維形貌演化
3.1 引言
3.2 模型的建立與實(shí)現(xiàn)
3.2.1 基本模型的建立
3.2.2 飽和事件的建模
3.2.3 表面弛豫行為的建模
3.3 計(jì)算細(xì)節(jié)
3.3.1 計(jì)算量的定義
3.3.2 原子層沉積生長(zhǎng)階段的界定
3.3.3 飽和沉積的實(shí)現(xiàn)
3.4 結(jié)果與討論
3.4.1 薄膜GPC分析
3.4.2 薄膜形貌分析
3.5 小結(jié)
第四章 原子層沉積生長(zhǎng)的研究
4.1 引言
4.2 其他因素對(duì)于ALD生長(zhǎng)的影響
4.2.1 脈沖時(shí)間對(duì)于ALD生長(zhǎng)的影響
4.2.2 擴(kuò)散速率對(duì)于ALD初期的影響
4.3 空間位阻對(duì)于ALD初期的影響
4.3.1 空間位阻對(duì)形貌的影響
4.3.2 空間位阻對(duì)生長(zhǎng)率的影響
4.3.3 空間位阻對(duì)臨界循環(huán)數(shù)Nc的影響
4.4 小結(jié)
第五章 總結(jié)與展望
5.1 主要結(jié)論與創(chuàng)新點(diǎn)
5.2 展望
參考文獻(xiàn)
附錄Ⅰ 致謝
附錄Ⅱ 攻讀碩士期間研究成果
本文編號(hào):3934536
【文章頁(yè)數(shù)】:73 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
Abstract
第一章 緒論
1.1 前言
1.2 原子層沉積技術(shù)概述
1.2.1 ALD技術(shù)的發(fā)展
1.2.2 ALD過(guò)程及其工藝特點(diǎn)
1.2.3 ALD的應(yīng)用
1.3 計(jì)算機(jī)模擬概述
第二章 原子層沉積的計(jì)算機(jī)仿真
2.1 引言
2.2 薄膜生長(zhǎng)理論及模擬方法
2.2.1 薄膜的生長(zhǎng)過(guò)程
2.2.2 薄膜的生長(zhǎng)模式
2.2.3 薄膜生長(zhǎng)模擬的方法
2.3 ALD薄膜生長(zhǎng)模型的分析
2.3.1 生長(zhǎng)模型概述
2.3.2 基于反應(yīng)動(dòng)力學(xué)的模型
2.3.3 基于表面熱力學(xué)及動(dòng)力學(xué)的模型
2.4 小結(jié)
第三章 原子層沉積過(guò)程的三維形貌演化
3.1 引言
3.2 模型的建立與實(shí)現(xiàn)
3.2.1 基本模型的建立
3.2.2 飽和事件的建模
3.2.3 表面弛豫行為的建模
3.3 計(jì)算細(xì)節(jié)
3.3.1 計(jì)算量的定義
3.3.2 原子層沉積生長(zhǎng)階段的界定
3.3.3 飽和沉積的實(shí)現(xiàn)
3.4 結(jié)果與討論
3.4.1 薄膜GPC分析
3.4.2 薄膜形貌分析
3.5 小結(jié)
第四章 原子層沉積生長(zhǎng)的研究
4.1 引言
4.2 其他因素對(duì)于ALD生長(zhǎng)的影響
4.2.1 脈沖時(shí)間對(duì)于ALD生長(zhǎng)的影響
4.2.2 擴(kuò)散速率對(duì)于ALD初期的影響
4.3 空間位阻對(duì)于ALD初期的影響
4.3.1 空間位阻對(duì)形貌的影響
4.3.2 空間位阻對(duì)生長(zhǎng)率的影響
4.3.3 空間位阻對(duì)臨界循環(huán)數(shù)Nc的影響
4.4 小結(jié)
第五章 總結(jié)與展望
5.1 主要結(jié)論與創(chuàng)新點(diǎn)
5.2 展望
參考文獻(xiàn)
附錄Ⅰ 致謝
附錄Ⅱ 攻讀碩士期間研究成果
本文編號(hào):3934536
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