發(fā)布時間：2024-03-10 09:11

　　采用紫外-可見光譜法研究了甲基橙在聚吡咯/納米Si O2復合材料(PPy/n-Si O2)上的氧化性能.結果表明:在弱酸性介質中,PPy/n-Si O2對甲基橙的氧化性能明顯優(yōu)于聚吡咯;反應5⁴0 min時,甲基橙氧化反應符合表觀一級反應動力學;反應60 min時,甲基橙的降解率可達到94.7%;PPy/n-Si O2經二次回收再生后,反應60 min時甲基橙降解率為96.5%.

【文章頁數(shù)】：4 頁

【文章目錄】：
1 實驗部分
    1.1 試劑與儀器
    1.2 甲基橙的氧化反應及其降解率計算
2 結果與討論
    2.1 甲基橙在PPy/n-Si O2上的氧化反應
    2.2 甲基橙氧化反應的光譜分析
    2.3 甲基橙氧化反應的動力學
    2.4 PPy/n-Si O2的再生回收
3 結論



本文編號：3924567