采用紫外-可見(jiàn)光譜法研究了甲基橙在聚吡咯/納米Si O2復(fù)合材料(PPy/n-Si O2)上的氧化性能.結(jié)果表明:在弱酸性介質(zhì)中,PPy/n-Si O2對(duì)甲基橙的氧化性能明顯優(yōu)于聚吡咯;反應(yīng)5⁴0 min時(shí),甲基橙氧化反應(yīng)符合表觀一級(jí)反應(yīng)動(dòng)力學(xué);反應(yīng)60 min時(shí),甲基橙的降解率可達(dá)到94.7%;PPy/n-Si O2經(jīng)二次回收再生后,反應(yīng)60 min時(shí)甲基橙降解率為96.5%.

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【文章目錄】：
1 實(shí)驗(yàn)部分
    1.1 試劑與儀器
    1.2 甲基橙的氧化反應(yīng)及其降解率計(jì)算
2 結(jié)果與討論
    2.1 甲基橙在PPy/n-Si O2上的氧化反應(yīng)
    2.2 甲基橙氧化反應(yīng)的光譜分析
    2.3 甲基橙氧化反應(yīng)的動(dòng)力學(xué)
    2.4 PPy/n-Si O2的再生回收
3 結(jié)論



本文編號(hào)：3924567