低介電系數(shù)的多孔性氧化硅/CE復(fù)合材料的研究
【文章頁數(shù)】:85 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖1-1POSS分子結(jié)構(gòu)式
20世紀40年代,ScottD.W首次合成了多面體低聚倍半硅氧烷(PolyhedligomericSilsesquioxanes,POSS),經(jīng)過半個世紀的發(fā)展這一領(lǐng)域的相關(guān)研究了突飛猛進的發(fā)展。POSS是指一類具有分子內(nèi)有機-無機雜化結(jié)構(gòu)的新型有化合物,其分子結(jié)....
圖1-2POSS的幾種基本典型結(jié)構(gòu)
圖1-2POSS的幾種基本典型結(jié)構(gòu)[14]著相關(guān)研究的發(fā)展,合成具有不同取代基功能化的POSS可以采取法。其主要的合成方法有以下3種。1)水解縮合法是合成POSS最直接的方法。采用三官能團有機硅單體RSiY3在酸能夠直接獲得多官能團POSS,其過程如圖1-....
圖1-3水解法制備多官能團POSS
圖1-2POSS的幾種基本典型結(jié)構(gòu)[14]關(guān)研究的發(fā)展,合成具有不同取代基功能化的POSS可以其主要的合成方法有以下3種。水解縮合法成POSS最直接的方法。采用三官能團有機硅單體RSiY3直接獲得多官能團POSS,其過程如圖1-3所示。
圖1-4單官能團POSS合成路線
第一章文獻綜述(2)頂端-封角法目前,合成單官能團POSS的主要方法是“頂端-封角”法,即:首先有反應(yīng)活性基團的三氯硅烷水解在溶液中,獲得部分縮合結(jié)構(gòu)的T7(OH)3加入帶有活性基團的三氯硅烷,進行“封角”反應(yīng),最終獲得封閉的籠型結(jié)成路線如圖1-4所示。
本文編號:3919096
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