發(fā)布時(shí)間：2024-02-26 22:36

　　石墨烯由于其獨(dú)特的結(jié)構(gòu)與性能,近年來(lái)受到研究者的廣泛青睞,已經(jīng)成為材料、化學(xué)、物理等眾多領(lǐng)域研究的熱點(diǎn),顯現(xiàn)出廣闊的應(yīng)用前景。聚吡咯(Polypyrrole, PPy)作為一種典型的導(dǎo)電高分子,具有易合成、高電導(dǎo)率和抗氧化性等優(yōu)點(diǎn)。本論文利用吡咯陽(yáng)離子(Pyrrole cation, Py+)在氧化石墨(Graphite oxide, GTO)、膨脹石墨(Expanded graphite, EG)和不同粒徑大小的天然石墨(Natural graphite, NG)內(nèi)部的原位插層聚合,制備了一系列聚吡咯/石墨烯復(fù)合材料,深入探究了吡咯陽(yáng)離子的插層聚合過(guò)程對(duì)不同種類石墨的剝離效果及系列聚吡咯/石墨烯復(fù)合材料的電磁學(xué)性能差異。通過(guò)原位插層聚合法制備了聚吡咯/氧化石墨烯復(fù)合材料,并以Na2O4S2和NaOH混合水溶液作為化學(xué)還原劑,得到聚吡咯/還原氧化石墨烯復(fù)合材料。研究發(fā)現(xiàn),Py+對(duì)氧化石墨片層的原位插層及層間聚合形成的高分子鏈運(yùn)動(dòng),使得氧化石墨片層得以進(jìn)一步剝離,產(chǎn)生更多的褶皺結(jié)構(gòu)。采用EG為原料,通過(guò)原位插層聚合法制備了聚吡咯/納米石墨片雜化材料。研究發(fā)現(xiàn)Py+可以有效地插層EG,并且...

【文章頁(yè)數(shù)】：78 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

圖１－２微機(jī)械剝離法制備石墨稀示意圖「３？］??Ｆｉｇ．?１－２?Ｇｒａｐｈｅｎｅ?ｐｒｅｐａｒｅｄ?ｂｙ?ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ?ｅｘｆｏｌｉａｔｉｏｎ［３０】??１．２．２．２溶劑剝離法??

缺點(diǎn)限制了其規(guī)�；瘧�(yīng)用［２５］。目前，還有報(bào)道利用物理研磨法制備石墨煉，然而這種??方法會(huì)一定程度上破壞石墨煉結(jié)構(gòu)，難以獲得大面積完整石墨煉『２９］。微機(jī)械剝離法制??備石墨煤如圖１－２所示??ｆ???ｍ?Ｂｕｌｋ?ＨＯＰＧ?ＩＳ＆ｒｉｃｆｉｎ＾??Ｊ．??（４｜?ＷＯｆＧ?ａｄ....

圖１－６聚Ｉ此略的結(jié)構(gòu)??Ｆｉ．?１－６?Ｔｈｅ?ｓｔｒｕｃｔｕｒａｌ?ｆｏｒｍｕｌａ?ｏｆｏｌｒｒｏｌｅ??

圖１－６聚Ｉ此略的結(jié)構(gòu)??Ｆｉｇ．?１－６?Ｔｈｅ?ｓｔｒｕｃｔｕｒａｌ?ｆｏｒｍｕｌａ?ｏｆ?ｐｏｌｙｐｙｒｒｏｌｅ??早在二十世紀(jì)初，聚批略粉末就己經(jīng)被成功合成出來(lái)，在當(dāng)時(shí)被稱為批略黑。之??后聚批略及聚卩比咯膜得到了很大發(fā)展，但其電導(dǎo)率普遍不高。直到１９７９年，電導(dǎo)率高??....

圖２－１?ＰＰｙ／ＧＯ復(fù)合材料制備流程圖??Ｆｉｇ．?２－１?Ｓｃｈｅｍａｔｉｃ?ｆｌｏｗ?ｆｏｒ?ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ?ｏｆ?ＰＰｙ／ＧＯ?ｃｏｍｐｏｓｉｔｅｓ??

圖２－１?ＰＰｙ／ＧＯ復(fù)合材料制備流程圖??Ｆｉｇ．?２－１?Ｓｃｈｅｍａｔｉｃ?ｆｌｏｗ?ｆｏｒ?ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ?ｏｆ?ＰＰｙ／ＧＯ?ｃｏｍｐｏｓｉｔｅｓ??２．２．２．４聚批暗／還原氧化石墨燭的制備??本實(shí)驗(yàn)采用Ｎａ２０４Ｓ２和ＮａＯＨ混合水溶液作為還原劑還原ＰＰｙ／....

圖２－４可見(jiàn)，氧化石墨在２０＝１０°左右存在明顯的特征衍射峰ｌ＿，代表氧化石墨??

位聚合提高了聚批略本身的分子排列有序性。??２．３．２．２化學(xué)結(jié)構(gòu)表征??圖２－５中顯示了?ＧＴＯ，ｒＧＯ，ＰＰｙ／ＧＯ，ＰＰｙ／ｒＧＯ和ＰＰｙ的傅里葉紅外光譜圖（ＦＴＩＲ）。??在ＧＴＯ的ＦＴＩＲ圖譜中，觀察到１７１８?ｃｍ］為Ｃ＝０的伸縮振動(dòng)峰丨…３】，１３９４ｃｉｎ＂＇為Ｃ....

本文編號(hào)：3911958