采用化學(xué)復(fù)合鍍技術(shù)制備了化學(xué)鍍Ni-P-SiO₂復(fù)合鍍層,并研究了SiO₂微粒的質(zhì)量濃度對化學(xué)鍍Ni-P-SiO₂復(fù)合鍍層性能的影響。結(jié)果表明:SiO₂微粒嵌入鍍層內(nèi)部或附著在鍍層表面,但當(dāng)SiO₂微粒的質(zhì)量濃度過高時SiO₂微粒出現(xiàn)團(tuán)聚現(xiàn)象;無論是鍍態(tài)還是熱處理后,化學(xué)鍍NiP-SiO₂復(fù)合鍍層的顯微硬度均隨SiO₂微粒的質(zhì)量濃度的增加而增大;當(dāng)SiO₂微粒的質(zhì)量濃度為12 g/L時,化學(xué)鍍Ni-P-SiO₂復(fù)合鍍層的耐蝕性最好;SiO₂微粒只是機(jī)械地?fù)诫s在鍍層中,并沒有改變鍍層的晶體結(jié)構(gòu)。

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本文編號：3890092