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Bi 2 Se 3 基超晶格與薄膜異質(zhì)結(jié)構(gòu)的外延及物性研究

發(fā)布時(shí)間:2023-12-24 11:19
  Bi2Se3是拓?fù)浣^緣體材料中的一種典型代表,其體能隙高達(dá)0.3eV,抗熱擾動(dòng)能力強(qiáng),有希望成為能在室溫下工作的自旋電子器件的基礎(chǔ)材料。然而單一材料的物理性質(zhì)是固定的,初步研究表明,由Bi2Se3基拓?fù)浣^緣體材料與其他材料交替堆積合成超晶格、量子阱等二維材料,展現(xiàn)出更低的熱導(dǎo)率以及更為新穎的量子物理性質(zhì)。這些新穎物性實(shí)際由低維條件下拓?fù)淞孔討B(tài)關(guān)聯(lián)度的耦合狀態(tài)決定,與超晶格或者量子阱的各種結(jié)構(gòu)細(xì)節(jié)相關(guān),因此也便于通過(guò)改變拓?fù)浣^緣體超晶格或者量子阱的結(jié)構(gòu)參數(shù)實(shí)現(xiàn)調(diào)制物性的目的。本文將圍繞Bi2Se3基超晶格和異質(zhì)結(jié)構(gòu)的制備及異質(zhì)界面基礎(chǔ)輸運(yùn)物性表征前沿方向展開(kāi)深入研究,所得實(shí)驗(yàn)結(jié)果可以作為更深入研究拓?fù)浣^緣體超晶格和量子阱結(jié)構(gòu)生長(zhǎng)動(dòng)力學(xué)以及電輸運(yùn)性質(zhì)的有益參考。具體工作內(nèi)容及相關(guān)結(jié)果簡(jiǎn)述如下:1.利用分子束外延技術(shù)在與Bi2Se3晶格匹配的InP(111)B襯底上制備由Bi2Se3

【文章頁(yè)數(shù)】:75 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】:碩士

【文章目錄】:
摘要
abstract
第一章 緒論
    1.1 研究工作的背景與意義
    1.2 薄膜異質(zhì)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)介
    1.3 超晶格簡(jiǎn)介
    1.4 Bi2Se3 基薄膜異質(zhì)結(jié)構(gòu)和超晶格的國(guó)內(nèi)外研究進(jìn)展
        1.4.1 Bi2Se3 基薄膜異質(zhì)結(jié)構(gòu)的國(guó)內(nèi)外研究進(jìn)展
        1.4.2 Bi2Se3 基超晶格的國(guó)內(nèi)外研究進(jìn)展
    1.5 Bi2Se3 簡(jiǎn)介
    1.6 In2Se3 簡(jiǎn)介
    1.7 本論文的結(jié)構(gòu)安排
第二章 實(shí)驗(yàn)原理及方法
    2.1 實(shí)驗(yàn)設(shè)備及材料
        2.1.1 實(shí)驗(yàn)設(shè)備
        2.1.2 實(shí)驗(yàn)材料
    2.2 材料制備與表征方式
        2.2.1 超高真空分子束外延技術(shù)
        2.2.2 反射式高能電子衍射儀
        2.2.3 掃描隧道顯微鏡
        2.2.4 高分辨率X射線(xiàn)衍射儀
        2.2.5 拉曼光譜分析
        2.2.6 光電I-V測(cè)試
        2.2.7 掃描電子顯微鏡
第三章 Bi2Se3/In2Se3 薄膜異質(zhì)結(jié)構(gòu)分子束外延制備及性質(zhì)研究
    3.1 引言
    3.2 InP(111)B襯底上Bi2Se3/In2Se3 薄膜異質(zhì)結(jié)構(gòu)制備
        3.2.1 InP(111)B襯底的清潔與準(zhǔn)備
        3.2.2 Bi2Se3/In2Se3 異質(zhì)結(jié)構(gòu)的分子束外延生長(zhǎng)
    3.3 Bi2Se3/In2Se3 異質(zhì)結(jié)構(gòu)中In2Se3 層的相結(jié)構(gòu)表征
    3.4 Bi2Se3/In2Se3 異質(zhì)結(jié)構(gòu)的表面形貌和成分測(cè)試
    3.5 Bi2Se3/In2Se3 異質(zhì)結(jié)構(gòu)的Ⅰ-Ⅴ測(cè)試
    3.6 本章小結(jié)
第四章 組分漸變(Bi1-xInx)2Se3/In2Se3 超晶格制備及結(jié)構(gòu)
    4.1 引言
    4.2 弱作用襯底上組分漸變(Bi1-xInx)2Se3/In2Se3 超晶格的制備
        4.2.1 氟晶云母襯底的清潔與準(zhǔn)備
        4.2.2 分子束外延制備組分漸變(Bi1-xInx)2Se3/In2Se3 超晶格的生長(zhǎng)工藝
    4.3 組分漸變(Bi1-xInx)2Se3/In2Se3 超晶格的微觀結(jié)構(gòu)
    4.4 組分漸變(Bi1-xInx)2Se3/In2Se3 超晶格的熱擴(kuò)散測(cè)試
    4.5 本章小結(jié)
第五章 全文總結(jié)與展望
    5.1 主要結(jié)論與創(chuàng)新點(diǎn)
    5.2 后續(xù)工作展望
致謝
參考文獻(xiàn)
攻讀碩士學(xué)位期間取得的成果



本文編號(hào):3874404

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