隨著激光技術(shù)的發(fā)展,大功率激光器越來(lái)越受人們的重視。大功率激光器在工業(yè)、軍事和核聚變等方面起著重要的作用,人們?cè)谔岣叽蠊β始す馄飨到y(tǒng)的輸出功率方面付出了巨大的努力。光學(xué)薄膜在激光器系統(tǒng)中有著重要的作用,但是隨著激光系統(tǒng)功率的提升,光學(xué)薄膜在高激光功率密度下容易損壞,光學(xué)薄膜成為了激光系統(tǒng)功率提升的瓶頸。本文圍繞光學(xué)薄膜抗激光能力開(kāi)展了研究,分別采用熱退火、等離子體后處理和兩步后處理方法提升光學(xué)薄膜的納秒激光損傷閾值(LIDT),具體研究?jī)?nèi)容如下:(1)圍繞Ar/O混合等離子后處理對(duì)TiO₂單層薄膜光學(xué)特性和抗激光損傷特性影響的機(jī)理開(kāi)展了研究。對(duì)于電子束蒸發(fā)技術(shù)(EBE)制備的單層TiO₂薄膜,在Ar/O混合等離子體后處理過(guò)程中,Ar離子可以去除薄膜表面缺陷,O離子具有減少薄膜材料非化學(xué)計(jì)量缺陷的作用,由此提高了TiO₂薄膜的光學(xué)特性和激光損傷閾值。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,隨著等離子體后處理時(shí)間的增加,薄膜的致密度提高、表面粗糙度降低、表面缺陷密度先減少后增加。在1064nm激光輻射下,TiO₂薄膜的LIDT從...

【文章頁(yè)數(shù)】：68 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【文章目錄】：
摘要
ABSTRACT
第1章 緒論
    1.1 選題背景及研究的目的和意義
    1.2 后處理工藝的國(guó)內(nèi)外研究現(xiàn)狀
        1.2.1 激光預(yù)處理
        1.2.2 離子后處理
        1.2.3 熱退火處理
        1.2.4 保護(hù)膜和緩沖層
    1.3 論文的主要內(nèi)容
第2章 光學(xué)薄膜檢測(cè)及損傷機(jī)理的分析
    2.1 光學(xué)薄膜檢測(cè)
    2.2 薄膜吸收的測(cè)試
    2.3 薄膜激光損傷的定義及損傷機(jī)理
        2.3.1 激光損傷的定義
        2.3.2 影響損傷閾值的因素
        2.3.3 提高損傷閾值的途徑
    2.4 本章小結(jié)
第3章 后處理對(duì)單層TiO₂、HfO₂薄膜的影響
    3.1 離子后處理對(duì)單層TiO₂薄膜的影響
        3.1.1 TiO₂薄膜的制備及后處理參數(shù)
        3.1.2 離子后處理對(duì)TiO₂薄膜光學(xué)特性的影響
        3.1.3 離子后處理對(duì)TiO₂薄膜表面形貌的影響
        3.1.4 離子后處理對(duì)TiO₂薄膜激光損傷閾值的影響
    3.2 兩步后處理對(duì)單層HfO₂薄膜的影響
        3.2.1 HfO₂薄膜的制備及后處理參數(shù)
        3.2.2 兩步后處理對(duì)HfO₂薄膜光學(xué)特性的影響
        3.2.3 兩步后處理對(duì)HfO₂薄膜表面形貌的影響
        3.2.4 兩步后處理對(duì)HfO₂薄膜激光損傷閾值的影響
    3.3 本章小結(jié)
第4章 兩步后處理對(duì)TiO₂/HfO₂/SiO₂ 高反薄膜的影響
    4.1 高損傷閾值TiO₂/HfO₂/SiO₂ 高反膜的設(shè)計(jì)
    4.2 TiO₂/HfO₂/SiO₂ 高反膜的制備及后處理參數(shù)
    4.3 兩步后處理對(duì)TiO₂/HfO₂/SiO₂ 高反膜光學(xué)特性的影響
    4.4 兩步后處理對(duì)TiO₂/HfO₂/SiO₂ 高反膜表面形貌影響
    4.5 兩步后處理對(duì)TiO₂/HfO₂/SiO₂ 高反膜激光損傷閾值影響
    4.6 本章小結(jié)
第5章 結(jié)論與展望
    5.1 結(jié)論及創(chuàng)新點(diǎn)
    5.2 展望
參考文獻(xiàn)
攻讀碩士學(xué)位期間取得的成果
致謝



本文編號(hào)：3863855