采用等離子增強化學氣相沉積(Plasma enhanced chemical vapor deposition,PECVD)方法在C/C復合材料表面制備碳納米管,探究了催化劑溶液濃度、碳納米管生長溫度、生長時間、氣體壓強、氣體流量等工藝參數(shù)對碳納米管生長的影響。通過拉曼光譜、掃描電子顯微鏡、透射電子顯微鏡等技術對制備的碳納米管進行表征,最佳工藝參數(shù)下所生長的碳納米管為多壁碳納米管,碳納米管壁的層數(shù)約15層,碳納米管直徑和長度分別為約18.9 nm和約2.5μm。將C/C復合材料與Nb和Ti600兩種金屬進行釬焊連接,對有無碳納米管的釬焊接頭進行分析,發(fā)現(xiàn)表面生長碳納米管有利于提高釬料潤濕性,釬焊接頭強度也有所提高。

【文章頁數(shù)】：8 頁

【文章目錄】：
0前言
1 試驗材料及方法
    1.1 試樣材料
    1.2 試驗方案
2 碳納米管生長工藝研究
    2.1 催化劑溶液濃度
    2.2 生長溫度
    2.3 氣體流量比
    2.4 氣體壓強
    2.5 最佳工藝參數(shù)
3 C/C復合材料與金屬釬焊
    3.1 生長碳納米管對釬料潤濕性的影響
    3.2 生長碳納米管對釬焊接頭的影響
4 結論



本文編號：3858630